[发明专利]光学层叠体

权利要求书

1.一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在所述硬涂层的与所述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，

该光学层叠体的特征在于，

所述二氧化硅微粒从所述硬涂层的所述干膜层侧表面露出，

所述干膜层直接层叠在所述二氧化硅微粒露出的所述硬涂层表面，

设置所述干膜层之前，在硬涂层的所述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，

在所述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从所述干膜层 侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，所述 10 处 0.2 μ m × 0.2 μ m 的区域 中的所述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且所述10处区域中的所述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，

通过X射线光电子能谱分析测定的所述硬涂层的与所述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为3％～10％。

2.如权利要求1所述的光学层叠体，其中，设置干膜层之前，对硬涂层的所述干膜层设置侧的表面，在1μm×1μm的测定视野所测定的所述凹凸形状的算术平均粗糙度Ra为0.5nm～7.0nm，所述凹凸形状的凸部间距离的平均间隔为10nm～150nm且标准偏差为40nm以下，

在0.12mm×0.12mm的测定视野所测定的所述凹凸形状的算术平均粗糙度Ra为0.5nm～7.0nm。

3.如权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，硬涂层含有选自由含硅原子有机化合物和紫外线吸收剂组成的组中的至少一种。

4.如权利要求3所述的光学层叠体，其中，含硅原子有机化合物为含反应性硅原子的有机化合物。

5.如权利要求3或4所述的光学层叠体，其中，紫外线吸收剂是重均分子量为220～1100的单体型紫外线吸收剂。

6.如权利要求1、2、3、4或5所述的光学层叠体，其中，干膜层由折射率为2.2～2.4的高折射率层与折射率为1.43～1.53的低折射率层交替层叠4层以上而成。

7.如权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，二氧化硅微粒以平均粒径7～80nm、单一颗粒的状态分散于硬涂层中。