[发明专利]光学层叠体

说明书

本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。

技术领域

本发明涉及光学层叠体。

背景技术

对于液晶显示器(LCD)、电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)、电子纸、平板电脑、等离子体显示器(PDP)和阴极射线管显示装置(CRT)等图像显示装置、以及触控面板等位置输入装置中的图像显示面，要求减少从外部光源照射的光线导致的反射，提高其可见性。对此，通常进行下述操作：利用在透光性基材形成有硬涂层和防反射层的光学层叠体，由此降低图像显示面的反射，提高可见性。

作为这样的防反射层，例如已知下述结构：通过溅射等在硬涂层上交替层叠了折射率低于该硬涂层的低折射率层和具有高于该低折射率层的折射率的高折射率层的结构(例如参见专利文献1等)。

通常在具备防反射层的图像显示装置中，在透光性基材上设置硬涂层和防反射层，并将该透光性基材贴合到图像显示装置等的最表面。

为了制造具备该防反射层的光学层叠体，需要在硬涂层上进行低折射率层与高折射率层的两层涂布。由于近年来的图像显示装置要求性能更高的防反射功能，因此需要3层或4层以上的层叠。

为了如此赋予防反射功能，需要重复按照次序的涂布，在硬涂层上层叠低折射率层和高折射率层。

另外，将通过溅射等在上述硬涂层上层叠有防反射层的层叠体用于图像显示装置等时，认为主要由有机树脂成分构成的硬涂层和由与其不同的无机成分构成的防反射层(溅射层)的界面的密合性也很重要，对此进行了钻研。例如，已知：在硬涂层的树脂成分中混合防反射层(溅射层)中包含的无机成分，由此对密合进行改善；或者，在硬涂层与防反射层的界面层叠作为底层涂料的SiOx。

但是，近年来在室外利用图像显示装置等的机会增多，若在这种室外暴露于紫外线下，则有机材料与无机材料的界面最容易发生剥离，存在容易发生现有的光学层叠体的层间剥离、特别是在硬涂层与防反射层的界面间容易发生剥离的问题。

此外，近年来，观看各种动画是普遍进行的，因此不仅是便于携带的平板电脑，而且对于多在桌上使用的笔记本型电脑也追求更鲜明的画质，作为防反射功能，与赋予防眩性相比使用玻璃状的透明硬涂层和防反射层的层叠体的情况增加。由于这种透明硬涂层的最表面是平滑的，因此硬涂层表面的易滑性存在问题，并且还存在抗粘连性差的问题。

该抗粘连性不仅影响将表面平滑的硬涂层卷取到辊上时的卷取容易性、现有已知的偏振片加工时的取出容易性，而且在后工序中以卷对卷方式通过溅射等在硬涂层上层叠防反射层(无机防反射层)的情况下，在真空体系环境下也能平稳地进行加工的水准很重要。

但是，在真空体系环境下，与大气体系环境下相比极其容易发生粘连，因此在现有的具备硬涂层的层叠体中很难说抗粘连性是充分的。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-23904号公报

发明内容

发明所要解决的课题