[发明专利]辐射源有效

专利信息
申请号: 201780035989.1 申请日: 2017-06-01
公开(公告)号: CN109313404B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: N·库马尔;S·R·胡伊斯曼 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G02F1/365;G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王静
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 辐射源
【权利要求书】:

1.一种超连续谱辐射源,包括:

照射光学器件,布置成接收具有一功率的脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束,每个脉冲子束包括所述脉冲泵浦辐射束的一部分;

多个波导,每个波导布置成接收多个脉冲子束中的至少一个,并且加宽所述脉冲子束的光谱,以便产生超连续谱子束,其中,所述脉冲泵浦辐射束的功率分散在所述多个波导上;以及

收集光学器件,布置成从所述多个波导接收超连续谱子束并将它们组合以形成超连续谱辐射束,

其中,所述脉冲泵浦辐射束被动地耦接到多个波导中并且穿过所述多个波导,而不会应用任何放大。

2.根据权利要求1所述的超连续谱辐射源,其中,所述多个波导包括集成光学器件。

3.根据权利要求2所述的超连续谱辐射源,其中,所述多个波导由氮化硅形成,并且被包覆材料包围。

4.根据权利要求2所述的超连续谱辐射源,其中,所述多个波导由氮化硅形成,并且被硅或二氧化硅(SiO2)包围。

5.根据权利要求2所述的超连续谱辐射源,其中,所述多个波导形成在共同的衬底上。

6.根据权利要求2所述的超连续谱辐射源,其中,所述多个波导的宽度为1μm或更小的量级,高度为500nm或更小的量级。

7.根据权利要求2所述的超连续谱辐射源,其中,所述多个波导中的每一个具有10mm或更小的长度。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的超连续谱辐射源,其中,所述超连续谱辐射束具有包括在400至2600nm波长范围内的辐射的光谱。

9.根据权利要求1-7中任一项所述的超连续谱辐射源,包括100个或更多个波导。

10.根据权利要求1-7中任一项所述的超连续谱辐射源,其中,所述照射光学器件和/或所述收集光学器件包括多组波导,所述多组波导按顺序排序,并且其中来自每组波导的波导光学耦接到在所述顺序中的下一组波导中的多个波导。

11.根据权利要求1-7中任一项所述的超连续谱辐射源,其中,所述照射光学器件和/或收集光学器件包括多个透镜光纤,所述多个透镜光纤中的每一个耦接到所述多个波导中的至少一个。

12.根据权利要求1-7中任一项所述的超连续谱辐射源,其中,所述照射光学器件包括第一光学器件和聚焦光学器件,其中所述第一光学器件布置成从所述辐射源接收辐射束并将所述辐射束引导到所述聚焦光学器件上,并且其中所述聚焦光学器件布置成将所述泵浦辐射束的不同部分光学耦接到所述多个波导中的至少两个。

13.一种光学测量系统,包括根据前述权利要求中任一项所述的超连续谱辐射源。

14.一种对准标记测量系统,包括:

根据权利要求1至12中任一项所述的超连续谱辐射源;

光学系统,能够操作以将所述超连续谱辐射束投影到对准标记,所述对准标记位于支撑在衬底台上的衬底上;

传感器,能够操作用于检测由对准标记衍射/散射的辐射,并输出包含与所述对准标记的位置有关的信息的信号;和

处理器,配置为接收来自所述传感器的信号并依赖于所述信号确定所述对准标记相对于所述衬底台的位置。

15.一种光刻设备,包括根据权利要求14所述的对准标记测量系统。

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