[发明专利]辐射源

说明书

一种用于对准标记测量系统的超连续谱辐射源包括：辐射源；照射光学器件；多个波导；和收集光学器件。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。照射光学器件布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括脉冲辐射束的一部分。多个波导中的每一个被布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽该脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束。收集光学器件布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以便形成超连续谱辐射束。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年6月9日提交的欧洲申请16173625.1的优先权，该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文。

技术领域

本发明涉及一种辐射源。本发明尤其涉及一种可以构成量测系统的部分的辐射源。例如，辐射源可以构成光刻设备内的对准系统或其它位置测量系统的部分。

背景技术

光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成要在IC的单层上形成的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。通常，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案，同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描衬底来辐射每个目标部分。也有可能通过图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。

为了控制将器件特征准确地放置在衬底上的光刻过程，通常在衬底上提供对准标记，并且光刻设备包括一个或更多个对准传感器，通过该对准传感器可以准确地测量衬底上的对准标记的位置。这些对准传感器是有效的位置测量设备。不同类型的对准标记和不同类型的对准传感器是已知的，例如，由不同的制造商提供。

不断需要提供更为准确的位置测量，尤其是随着产品特征变得越来越小而控制重叠误差。

本发明的目的是提供一种替代的辐射源，其至少部分地解决与现有技术的辐射源相关联的一个或更多个问题，无论此处是否提及所述一个或更多个问题。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种超连续谱辐射源，包括：照射光学器件，布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括所述脉冲泵浦辐射束的一部分；多个波导，每个波导布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽所述脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束；和收集光学器件，布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以形成超连续谱辐射束。

超连续谱的产生是通过短的高功率脉冲通过非线性介质的传播形成宽的连续光谱(波长范围为约400nm至2500nm)。术语超连续谱不涵盖特定的现象，而是导致光脉冲的相当大的光谱加宽的多个非线性效应。所涉及的非线性效应依赖于材料中的色散且将如自相位调制、拉曼散射、相位匹配和孤子的效应计算在内。目前的超连续谱光纤激光器包括高峰值功率泵浦源，以有效地启动光纤中的非线性效应和特定长度的光子晶体光纤，用于产生超连续谱。

超连续谱辐射源可以适用于光学测量系统，一般而言，例如对准标记测量系统或半导体检查设备。此外，根据本发明的超连续谱辐射源可以有利地应用于除光刻技术领域之外的其他技术领域，例如医学断层摄影、光纤或部件衰减的测量、干涉量测或光谱学、光学相干断层扫描、共聚焦显微镜、纳米技术、生物医学，消费类电子产品等。