[发明专利]从金属结构上去除铝-硅涂层的方法及制备磁性部件的相关方法

说明书

描述了用于选择性地去除烧制于金属结构的表面上的铝‑硅涂层的方法。该方法包括在足以去除涂层而基本上不影响金属表面的条件下，使涂层与熔融的氢氧化钾(KOH)接触的步骤。还描述了用于制备磁性部件的方法。它们涉及在氮化步骤之前，使用烧制到表面上的铝‑硅涂层，掩蔽部件表面的预选区域。然后根据本文概述的程序去除涂层。

技术领域

本公开总体上涉及经涂布的金属结构。在一些具体实施例中，本公开的发明涉及用于去除已烧制到各种金属部件的表面上的铝-硅涂层的方法。

背景技术

许多先进的涂层系统经常应用于金属部件或者由其它材料形成的部件的金属部分的一个或多个表面。涂层经常用于保护表面或基材，提供电绝缘或热绝缘，或者提供耐磨性、耐腐蚀性或抗氧化性。广泛多样的特种材料可用于这些用途，包括用于保护超合金零件和其它高温制品的热障材料(例如，稳定的氧化锆)。其它保护涂层可由许多不同的氧化铝、碳化物、硼化物或硅化物组合物形成。

专门组合物的其它具体例子包括各种铝-硅涂层，其可包括硅酸铝材料、铝化物硅化物材料(aluminide silicide material)等等。在一些情况下，上述各种涂层用于除表面保护之外的目的。例如，它们可用于化妆品目的，或用作阻气涂层；或者用于掩蔽基材的区段，同时对基材执行其它加工步骤。

上述材料中的许多被设计为永久地沉积在基材上，并且在零件或装置的寿命期间不被去除。例如，一些硅酸铝材料以浆料形式施加到表面上。涂层可进行热处理以去除任何挥发性物质，例如有机粘结剂，或者有时简单地在环境温度下风干。通常，然后将涂层烧制到基材表面上，例如，在500℃以上且有时1,000℃以上的温度下，以将涂层永久地粘结到基材上。这种类型的高度粘附的涂层可保护各种制品免受温度、腐蚀、磨损等等的严重影响。

然而，上述性能涂层中的一些对于其中涂层需要在某些点被去除的应用非常有用。一个例子涉及用作掩蔽材料的各种涂层。如在未决的美国专利申请S.N.14/068,937中所述，用于制备磁性部件的方法需要掩蔽部件表面的预选区段。在部件进行热处理且在专门反应中氮化之后，需要去除掩蔽材料或“停止”。

然而，当用于铝-硅涂层如硅酸铝时，从金属基材去除各种掩蔽材料的常规材料和方法显示出缺点。一些涂层去除材料不能从表面去除大部分掩蔽材料。其它涂层去除材料在去除掩蔽材料方面可能略微有效，但损害或以其它方式改变下面的基材。

考虑到这些观察和关注，用于从金属基材去除铝-硅涂层的方法和组合物中的改进在本领域中将是受欢迎的。新技术应该改进去除涂层(例如掩蔽材料)的能力，而不会不利地影响基材。材料和方法对于获得和实施也应该是相对经济的。此外，新材料的使用不应涉及有关安全或健康程序的难题。

发明内容

本发明的一些实施例涉及用于选择性去除烧制在金属结构的表面上的铝-硅涂层的方法。该方法包括在足以去除涂层而基本上不影响金属表面的条件下，使涂层与熔融的氢氧化钾(KOH)接触的步骤。

其它实施例涉及制备磁性部件的方法，其包括：

a)使用包含经烧制的铝-硅涂层的氮掩蔽材料，掩蔽部件的表面部分的预选区段，以在部件中形成经掩蔽的区域；

b)在大于约900℃的温度下在富氮大气中热处理该部件，以在磁性合金中形成混杂的第一区域和第二区域；其中

所述第一区域包含磁相；

所述第二区域包含非磁相；

所述第二区域包含大于0.1％的氮；以及然后

c)在足以去除掩蔽材料而基本上不影响该部件的条件下，通过使材料与熔融的氢氧化钾接触，选择性去除氮掩蔽材料。

附图说明

图1是双相磁性部件的图示，因为它涉及本发明的实施例。

具体实施方式