[发明专利]涂布方法

说明书

在圆形基板(W)上形成药液的贮液部(PD)之前，形成螺旋状的药液膜(CF)。贮液部(PD)的药液会与螺旋状的药液膜(CF)好好地溶合为一。为此，在使圆形基板(W)旋转来扩展贮液部(PD)的药液以覆盖螺旋状的药液膜(CF)时，会使贮液部(PD)的药液良好地扩展。另外，在贮液部(PD)的药液扩展时，能使螺旋状的药液膜(CF)的表面的凹凸变为平坦。由此就可以防止断膜等，且可以在圆形基板(W)上形成高黏度的药液膜(CF)时使膜厚均匀。

技术领域

本发明是涉及一种对半导体基板、液晶显示器用玻璃基板、光掩模 (photomask)用玻璃基板、光盘用基板等的基板涂布高黏度的药液的涂布方法。

背景技术

涂布装置是具备：保持旋转部，用以保持圆形基板并使圆形基板旋转；以及喷嘴(nozzle)，用以从由保持旋转部所保持的基板的上方对圆形基板喷出药液(例如，参照专利文献1、2)。涂布装置以被称为旋转涂布的方法来形成药液膜。首先，使圆形基板以低速旋转。接着，使药液从喷嘴喷出。然后，在停止药液的喷出之后，使圆形基板以高速旋转以便圆形基板上的药液能成为所期望的膜厚。在专利文献1、2中，在使药液从喷嘴喷出时，以横穿圆形基板的旋转中心的方式来使喷嘴移动。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭60-217627号公报。

专利文献2：日本特许第3970695号公报。

发明内容

(发明所要解决的课题)

然而，如此的现有例有如下的问题。即，即便使用高黏度的药液进行旋转涂布，仍有药液不能均等地扩展，或药液在圆形基板的中心部隆起，或药液不能好好地扩展的问题。例如，在圆形基板的表面(主面)形成有集成电路等的图案(pattern)，由此，圆形基板的表面就会具有凹凸。

对该圆形基板的凹凸的表面上喷出例如300cP(centipoise；厘泊)以上的高黏度的药液，且以例如1000rpm以上的高速旋转进行旋转涂布。在此情况下，通过凹凸就会发生如图16中的(a)的附图标记M所示的未载有药液膜CF的断膜(未涂布)，或如图16中的(b)的附图标记N所示，反映出凹凸。由此，就会局部使膜厚均匀性恶化。

本发明是鉴于如此的情况而提出的，其目的在于提供一种在圆形基板上形成高黏度的药液膜时能够使膜厚均匀的涂布方法。

(用以解决课题的手段)

本发明是为了达成上述目的而采取如下的结构。即，本发明的涂布方法是将300cP以上的高黏度药液供给至圆形基板上并在所述圆形基板上形成药液膜的方法；所述涂布方法具备：使所述圆形基板以第一转速旋转，且一边使位于所述圆形基板的上方的药液喷嘴沿着所述圆形基板的半径方向移动，一边从所述药液喷嘴将药液喷出至所述圆形基板上，由此形成螺旋状的药液膜；在形成所述螺旋状的药液膜之后，从所述药液喷嘴将药液喷出至所述圆形基板的中心部，由此在所述圆形基板的中心部形成药液的贮液部；以及在形成所述药液的贮液部之后，以比所述第一转速更快的第二转速使所述圆形基板旋转，由此来扩展所述贮液部的药液以覆盖所述螺旋状的药液膜。

依据本发明的涂布方法，在圆形基板上形成药液的贮液部之前，形成螺旋状的药液膜。贮液部的药液会与螺旋状的药液膜好好地溶合为一。为此，在使圆形基板旋转来扩展贮液部的药液以覆盖螺旋状的药液膜时，会使贮液部的药液良好地扩展。另外，在贮液部的药液扩展时，能使螺旋状的药液膜的表面的凹凸变为平坦。由此就可以防止断膜等，且可以在圆形基板上形成高黏度的药液膜时使膜厚均匀。