[发明专利]曝光装置和曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

基板保持部，所述基板保持部保持具有多个曝光区域的作为被曝光材料的基板；

掩模保持部，所述掩模保持部保持形成有具有与所述曝光区域大致相等大小的图案的掩模；

基板搬运部，所述基板搬运部驱动所述基板保持部以能在预定的方向搬运所述基板；

对准检测系统，所述对准检测系统检测设置在所述掩模和所述基板的对准用标记；

掩模驱动部，所述掩模驱动部驱动所述掩模保持部以能调整所述基板与所述掩模的对准；

掩模搬运部，所述掩模搬运部驱动载放所述掩模驱动部的驱动部载放台以能在所述预定的方向搬运所述掩模；以及

照明装置，所述照明装置经由所述掩模在所述基板的所述曝光区域照射曝光光束。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

还包括驱动所述对准检测系统的检测系统驱动部，

所述对准检测系统和所述检测系统驱动部配设在所述掩模保持部，被所述掩模搬运部沿着所述预定的方向搬运。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

还包括照明装置搬运部，所述照明装置搬运部能在所述预定的方向搬运所述照明装置。

4.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明装置具有至少比所述基板的曝光区域在所述预定的方向更长的有效照射区域。

5.一种曝光方法，使用曝光装置，所述曝光装置包括：

基板保持部，所述基板保持部保持具有多个曝光区域的作为被曝光材料的基板；

掩模保持部，所述掩模保持部保持形成有具有与所述曝光区域大致相等大小的图案的掩模；

基板搬运部，所述基板搬运部驱动所述基板保持部以能在预定的方向搬运所述基板；

对准检测系统，所述对准检测系统检测设置在所述掩模和所述基板的对准用标记；

掩模驱动部，所述掩模驱动部驱动所述掩模保持部以能调整所述基板与所述掩模的对准；

掩模搬运部，所述掩模搬运部驱动载放所述掩模驱动部的驱动部载放台以能在预定的方向搬运所述掩模；以及

照明装置，所述照明装置经由所述掩模在所述基板的所述曝光区域照射曝光光束，

所述曝光方法的特征在于，包括：

利用所述基板搬运部，来将所述基板在预定的方向搬运的工序；

利用所述掩模搬运部，来使所述掩模在所述预定的方向移动并与所述基板同步的工序；

利用所述对准检测系统和所述掩模驱动部，来对准所述掩模与所述基板的工序；以及

从所述照明装置照射曝光光束，将所述掩模的图案曝光转印到所述基板的所述曝光区域的工序，

在所述基板与所述掩模同步的状态下，至少进行所述对准工序。

6.如权利要求5所述的曝光方法，其特征在于，

在所述基板与所述掩模同步的状态下，还进行所述曝光工序。

7.如权利要求5或6所述的曝光方法，其特征在于，

还包括驱动所述对准检测系统的检测系统驱动部，

在所述对准工序后，还包括在所述基板与所述掩模同步的状态下，利用所述检测系统驱动部使所述对准检测系统从所述照明装置的有效照射区域退开的工序。

8.如权利要求5～7中的任一项所述的曝光方法，其特征在于，

在所述照射工序中，使所述照明装置与所述基板和所述掩模同步并在所述预定的方向移动。

9.如权利要求5～8中的任一项所述的曝光方法，其特征在于，

在所述曝光工序中，在所述基板与所述掩模同步的状态下，所述基板与所述掩模以恒定速度被搬运、或者被减速搬运。

10.如权利要求5～9中的任一项所述的曝光方法，其特征在于，

所述掩模在向与所述预定的方向相反的方向移动后，在所述预定的方向移动并与所述基板同步。