[发明专利]曝光装置和曝光方法在审
申请号: | 201780053508.X | 申请日: | 2017-08-23 |
公开(公告)号: | CN109690414A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 富樫工;原田智纪;永井一马 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | G03F7/22 | 分类号: | G03F7/22;G03F7/20 |
代理公司: | 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 | 代理人: | 邹轶鲛;石红艳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 掩模 曝光区域 搬运 曝光装置 基板 照射曝光光束 基板搬运部 基板保持部 调整基板 照明装置 相等 对准 图案 曝光 驱动 | ||
曝光装置包括:保持具有多个曝光区域(E1)~(E6)的基板(W)的基板保持部(2);保持形成有具有与曝光区域(E)大致相等大小的图案的掩模(M)的掩模保持部(1);能在预定的方向搬运基板(W)的基板搬运部(10);能在预定的方向搬运掩模(M)的掩模搬运部(40);能调整基板(W)与掩模(M)的对准的掩模驱动部(50);以及经由掩模(M)向曝光区域(E)照射曝光光束的照明装置(3)。
技术领域
本发明涉及曝光装置和曝光方法,更详细而言,涉及对具有多个曝光区域的基板使用比基板更小的掩模来曝光的曝光装置和曝光方法。
背景技术
以往,已知如下的分割逐次曝光装置:用掩模保持部来保持比作为被曝光材料的基板小的掩模,并且用基板保持部来保持基板,在将掩模与基板以预定的间隙对置配置的状态下,边使基板相对于掩模逐步移动,边在每个步骤从曝光用照明装置向掩模照射曝光用的光,将掩模的图案依次曝光转印到基板上。
另外,公开了例如形成彩色滤光片的着色层的扫描曝光装置(例如参照专利文献1):能够边连续搬运基板,边使用在与基板搬运方向正交的方向上并列的小型的光掩模,高精度地进行曝光中的基板与光掩模的位置对齐。在该情况下,拍摄装置对形成于基板上的曝光区域内的遮光层进行拍摄并求出遮光层相对于基板搬运方向的倾角,基于此使光掩模旋转、移动从而校正光掩模相对于遮光层的倾斜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-123050号公报
发明内容
本发明欲解决的问题
可是,根据以往的分割逐次曝光装置,如图9所示,使保持基板的基板保持部移动至预定的曝光位置并停止后(Ta1),用对准摄像机对掩模和基板的标记进行拍摄(Ta2),接着进行对准校正(Ta3)以边使掩模驱动,边使掩模和基板的标记对齐。并且,在确认了校正结果后(Ta4),使对准摄像机从曝光区域退开(Ta5),经由掩模对基板照射曝光光束并将掩模的图案曝光转印(Ta6)。此外,在图9中,Vw表示基板保持部的移动速度,Vm表示掩模保持部的移动速度,Vc表示对准摄像机的退开移动速度。这样的分割逐次曝光装置存在的问题是:由于在每次曝光时重复进行基板保持部、掩模保持部、对准摄像机的移动与停止,因此,1次曝光所需要的时间较长,在对1片基板进行多次曝光的情况下,随着曝光次数增加,节拍时间会增加从而生产效率会下降。
另外,专利文献1中的这样的扫描曝光装置由于专用于在基板的搬运方向上的图案一样的线状的曝光,因此,不是应对分割逐次曝光装置所使用的图案的曝光的装置。
本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于提供一种曝光装置和曝光方法,能够缩短节拍时间,对具有多个曝光区域的基板高效地进行曝光转印。
用于解决问题的方案
本发明的上述目的由下述的构成实现。
(1)一种曝光装置,其特征在于,包括:
基板保持部,所述基板保持部保持具有多个曝光区域的作为被曝光材料的基板;
掩模保持部,所述掩模保持部保持形成有具有与所述曝光区域大致相等大小的图案的掩模;
基板搬运部,所述基板搬运部驱动所述基板保持部以能在预定的方向搬运所述基板;
对准检测系统,所述对准检测系统检测设置在所述掩模和所述基板的对准用标记;
掩模驱动部,所述掩模驱动部驱动所述掩模保持部以能调整所述基板与所述掩模的对准;
掩模搬运部,所述掩模搬运部驱动载放所述掩模驱动部的驱动部载放台以能在所述预定的方向搬运所述掩模;以及
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社V技术,未经株式会社V技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780053508.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于光刻设备的流体处理结构
- 下一篇:用于电子工业中的溶剂