[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括投影系统，所述投影系统被配置为投影由掩模图案化的图案化辐射束以在衬底上形成曝光区域，所述衬底被保持在衬底台上，其中所述光刻设备进一步包括加热设备，所述加热设备包括被配置为提供一个或多个额外的辐射束的一个或多个辐射源，所述一个或多个额外的辐射束在曝光期间照射并且加热所述衬底的一部分，以及其中所述加热设备被配置为基于所述掩模的反射率来加热所述衬底的所述一部分。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述加热设备被配置为基于所述掩模沿扫描方向和/或沿非扫描方向的反射率变化来加热所述衬底的所述一部分。

3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述衬底的、在所述曝光期间由所述一个或多个额外的辐射束照射并且加热的所述一部分包括所述曝光区域的至少一部分。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述光刻设备是扫描光刻设备，以及其中所述一个或多个额外的辐射束包括跨所述曝光区域沿非扫描方向分布的多个辐射束。

5.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述一个或多个辐射源被配置为照射与所述曝光区域至少部分地重叠的区域的阵列。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，经照射的区域的所述阵列基本上填充所述曝光区域。

7.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述一个或多个辐射源包括被配置为照射不同区域的多个辐射源。

8.根据权利要求7所述的光刻设备，其中，所述辐射源单独地可控以允许调节由所述辐射源输出的辐射束的功率。

9.根据权利要求1或2所述的光刻设备，进一步包括多个检测器，所述多个检测器被配置为从所述衬底上不同区域接收红外辐射。

10.根据权利要求9所述的光刻设备，其中，所述检测器被配置为从由所述一个或多个辐射源照射的区域接收红外辐射。

11.根据权利要求10所述的光刻设备，进一步包括控制器，所述控制器被配置为控制被输送至所述衬底的经照射的部分的辐射的功率。

12.根据权利要求11所述的光刻设备，其中，所述控制器使用前馈控制，所述前馈控制考虑了用于图案化所述辐射束的掩模的经测量的反射率。

13.根据权利要求11所述的光刻设备，其中，所述控制器使用前馈控制，所述前馈控制考虑了所述衬底的经测量的反射率。

14.根据权利要求11所述的光刻设备，其中，所述控制器使用反馈控制，所述反馈控制考虑了来自所述检测器的输出。

15.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述光刻设备进一步包括冷却元件，所述冷却元件位于所述衬底台之上并且与所述曝光区域相邻，所述冷却元件被配置为从所述衬底移除热量。

16.一种光刻方法，包括使用掩模图案化辐射束并且投影经图案化的辐射束以曝光被保持在衬底台上的衬底上的曝光区域，所述方法进一步包括使用一个或多个额外的辐射束来在所述曝光区域的曝光期间照射并且加热所述衬底的一部分，其中所述衬底的所述一部分的加热是基于所述掩模的反射率的。