[发明专利]蒸镀装置

权利要求书

1.一种蒸镀装置，用于在基板上蒸镀一种以上的薄膜形成用物质，其特征在于，包括：

第一线性蒸发源，具有使得用于将第一薄膜形成用物质喷射到上述基板上的多个蒸镀用喷嘴沿着第一方向较长地排列的第一传导管；

固定型遮挡部件，包括通道区域部以及遮挡区域部，上述通道区域部设置于上述第一传导管与上述基板之间，用于使得所喷射的上述第一薄膜形成用物质的一部分朝向上述基板通过，上述遮挡区域部用于阻挡第一薄膜形成用物质的剩余部分；以及

第一防污染部件，设置于上述固定型遮挡部件，用于防止粘在多个上述蒸镀用喷嘴中的至少一个蒸镀用喷嘴上的污染物移动到上述基板。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，

上述第一防污染部件通过横穿上述通道区域来将上述通道区域部分为第一通道区域及第二通道区域。

3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，

上述第一防污染部件沿着第一方向横穿上述通道区域部来较长地设置，

多个上述蒸镀用喷嘴以对应于上述第一防污染部件的方式排列。

4.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，

上述蒸镀装置还包括第一旋转型遮挡部件，上述第一旋转型遮挡部件以通过第一铰链轴旋转的方式设置于上述固定型遮挡部件，用于调节上述第一通道区域的宽度。

5.根据权利要求4所述的蒸镀装置，其特征在于，

上述第一铰链轴设置于上述固定型遮挡部件的上述遮挡区域部，并设置在相对于上述第一防污染部件的侧面的中心垂直的位置。

6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，

通过第一旋转型遮挡部件的旋转，上述第一通道区域的宽度朝向上述第一传导管的前端逐渐线性减小且朝向上述第一传导管的末端逐渐线性增大。

7.根据权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于，

上述蒸镀装置还包括第二旋转型遮挡部件，上述第二旋转型遮挡部件以通过第二铰链轴旋转的方式设置于上述固定型遮挡部件，用于以使第二通道区域的宽度朝向上述第一传导管的前端逐渐线性减小且朝向上述第一传导管的末端逐渐线性增大的方式调节上述第二通道区域的宽度。

8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，

上述蒸镀装置还包括：

第一驱动部及第二驱动部，分别对上述第一旋转型遮挡部件及上述第二旋转型遮挡部件施加旋转力；

前端侧蒸镀率传感器，设置于上述固定型遮挡部件的上述遮挡区域部中的对应于上述第一传导管前端部的第一部分来测定蒸镀率；以及

末端侧蒸镀率传感器，设置于上述固定型遮挡部件的上述遮挡区域部中的对应于上述第一传导管的末端部的第二部分来测定蒸镀率。

9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，

若由上述前端侧蒸镀率传感器测定的前端侧蒸镀率大于由上述末 端侧蒸镀率传感器测定的末端侧蒸镀率，则上述第一驱动部及上述第二驱动部分别使第一旋转型遮挡部件及第二旋转型遮挡部件各自旋转，来使得上述第一通道区域及上述第二通道区域各自的宽度朝向上述第一传导管的前端逐渐线性减小且朝向上述第一传导管的末端逐渐线性增大。

10.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，

上述蒸镀装置还包括：

第二传导管，位于上述第一传导管的左侧，用于引导第二薄膜形成用物质；以及

第三传导管，位于上述第一传导管的右侧，用于引导第三薄膜形成用物质，第三薄膜形成用物质是与上述第二薄膜形成用物质相同的物质，

上述第二薄膜形成用物质及上述第三薄膜形成用物质为用于产生所需蒸镀率的所需蒸镀率产生温度高于上述第一薄膜形成用物质的物质。