[发明专利]光刻设备和支撑结构背景

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

固定框架，具有第一电导体；

支撑结构，被配置为支撑物体，可移动地耦合到所述框架，并且具有第二电导体；以及

导电流体，被配置为将所述第一电导体电耦合到所述第二电导体。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述框架限定容纳所述导电流体的腔体。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中：

所述支撑结构被配置为沿着第一方向移动第一距离；以及

所述腔体在所述第一方向上具有的尺寸等于或大于所述第一距离。

4.根据权利要求2所述的光刻设备，其中：

所述支撑结构被配置为沿着不同于所述第一方向的第二方向移动第二距离；以及

所述腔体在所述第二方向上具有的尺寸等于或大于所述第二距离。

5.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述腔体在垂直方向上与所述支撑结构重叠。

6.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置为生成将所述导电流体保持在所述腔体内的气流。

7.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置为生成将所述导电流体保持在所述腔体内的磁场。

8.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述第二电导体包括浸没在所述导电流体中的第一部分。

9.根据权利要求1所述的光刻设备，进一步包括电部件，所述电部件电耦合到所述第二电导体，并且耦合到所述支撑结构，使得所述电部件与所述支撑结构一起移动。

10.根据权利要求9所述的光刻设备，其中所述电部件包括被配置为发送或接收经由所述导电流体传输的信号的传感器。

11.根据权利要求9所述的光刻设备，其中所述电部件包括被配置为移动所述支撑结构的定位器。

12.根据权利要求1所述的光刻设备，进一步包括电耦合到所述第一电导体的电部件。

13.根据权利要求12所述的光刻设备，其中所述电部件包括被配置为控制所述光刻设备的过程的数据处理设备。

14.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述导电流体包括汞。

15.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述导电流体包括镓。

16.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述导电流体包括溶剂和电解质溶质。

17.根据权利要求16所述的光刻设备，其中所述溶剂包括水，并且所述电解质溶质包括盐。

18.根据权利要求17所述的光刻设备，其中所述盐包括氯化钠。

19.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述支撑结构包括被配置为支撑衬底的衬底台。

20.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述支撑结构包括被配置为支撑图案化装置的掩模台。