[发明专利]光刻设备和支撑结构背景

说明书

一种光刻设备可以包括具有第一电导体的固定框架和被配置为支撑物体的支撑结构。支撑结构可移动地耦合到框架并且具有第二电导体。光刻设备还可以包括将第一电导体电耦合到第二电导体的导电流体。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年9月9日提交的美国临时专利申请No.62/385,623的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开涉及光刻设备和支撑例如衬底或图案化装置的物体的支撑结构。

背景技术

光刻设备是一种将期望图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。例如，可以使用光刻设备来制造集成电路(IC)。在这种情况下，图案化装置(例如，掩模或掩模版)可以生成要在IC的单个层上形成的电路图案。该图案可以转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或几个管芯的部分)上。图案的转移通常经由到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上的成像来进行。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括所谓的步进器(其中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分)以及所谓的扫描仪(其中通过辐射束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案同时平行或反平行于该方向来扫描衬底来照射每个目标部分)。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案化装置转移到衬底。

光刻设备典型地包括支撑物体的至少一个可移动支撑结构，例如，支撑衬底的衬底台或支撑图案化装置的掩模台。用于功率或信号的电流使用一个或多个导线从固定源(例如，框架)被提供到可移动支撑结构。通常，这些导线(和诸如压缩空气管线等其他部件)被容纳在导管载体(例如，电缆板或脐带式线)中，该导管载体针对导线提供导管以从固定部件传递到可移动支撑结构。通常，导管载体被配置为在可移动支撑结构在光刻设备内移动时弯曲(例如，折叠和展开)，并且当导管载体弯曲时，包含在其中的导线也弯曲。

光刻设备内的系统故障和污染的一个来源是导管载体和包含在导管载体内的导线。当导管载体和导线由于可移动支撑结构的移动而弯曲时，形成导管载体的材料和导线(例如，形成导管载体的材料或导线的聚合物绝缘层)开始磨损。并且最终，导管载体和导线磨损到系统故障点，以及/或者由于这种磨损而生成污染颗粒。

发明内容

因此，在一些实施例中，减少或消除了使用导管载体和导线而在光刻设备内将电流从固定部件传输到可移动支撑结构，从而减少或消除了系统故障和污染的来源。

在一些实施例中，一种光刻设备包括具有第一电导体的固定框架和被配置为支撑物体的支撑结构。支撑结构可移动地耦合到框架并且具有第二电导体。光刻设备还包括将第一电导体电耦合到第二电导体的导电流体(例如，包括诸如汞等导电金属的流体、包括水和盐的流体、包括等离子体的流体、或包括电离气体的流体)。

在一些实施例中，框架限定容纳导电流体的腔体。支撑件可以被配置为沿着第一方向移动第一距离，并且腔体在第一方向上具有的尺寸可以等于或大于第一距离。支撑件还可以被配置为沿着不同于第一方向的第二方向移动第二距离，并且腔体在第二方向上具有的尺寸可以等于或大于第二距离。腔体可以在垂直方向上与支撑件重叠。光刻设备可以被配置为生成将导电流体保持在腔体内的气流，或者被配置为生成将导电流体保持在腔体内的磁场。

在一些实施例中，第二电导体包括浸没在导电流体中的第一部分。

在一些实施例中，光刻设备包括电部件，该电部件电耦合到第二电导体并且耦合到支撑结构，使得电部件与支撑结构一起移动。电部件可以包括被配置为发射或接收经由导电流体传输的信号的传感器。电部件可以包括被配置为移动支撑结构的定位器。

在一些实施例中，光刻设备包括电耦合到第一电导体的电部件。电部件可以包括被配置为控制光刻设备的过程的数据处理装置。