[发明专利]包括对装置标记的原位印刷的测量方法以及对应装置有效

专利信息
申请号: 201780055169.9 申请日: 2017-08-18
公开(公告)号: CN109690418B 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: K·J·维奥莱特;I·M·P·阿尔茨;H·V·科克;E·B·卡蒂 申请(专利权)人: ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 包括 装置 标记 原位 印刷 测量方法 以及 对应
【权利要求书】:

1.一种用于校准传感器系统的方法,包括:

在结构至少部分地位于装置内的同时在所述结构上印刷装置标记,所述结构与将由所述装置保持的衬底分离;

使用所述装置内的所述传感器系统来测量所述装置标记;以及

使用所述装置标记来校准所述传感器系统。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述结构是被配置为保持所述衬底的衬底台的一部分或者位于所述衬底台上。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述传感器系统是对准传感器系统。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其中印刷所述装置标记包括:使用来自所述装置的系统的辐射束。

5.根据权利要求1或2所述的方法,其中印刷所述装置标记包括:利用所述装置标记烧蚀所述结构的表面。

6.根据权利要求1或2所述的方法,其中印刷所述装置标记包括:将通过图案形成装置而形成有图案的束投影到所述结构上,以印刷所述装置标记。

7.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述结构包括具有表面涂层的板。

8.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述装置标记与所述衬底的对准标记具有相同类型。

9.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述装置标记与所述衬底的对准标记不是相同类型,但是模拟所述衬底的所述对准标记的传感器系统漂移行为。

10.一种用于校准的装置,包括:

结构;

传感器系统,被配置为测量标记;以及

控制系统,被配置为:

在所述结构至少部分地位于所述装置内的同时使得在所述结构上印刷装置标记,所述结构与将由所述装置保持的衬底分离,

使得使用所述装置内的所述传感器系统来测量所述装置标记,以及

使得使用所述装置标记校准所述传感器系统。

11.根据权利要求10所述的装置,还包括:衬底台,被配置为保持所述衬底,并且其中所述结构是所述衬底台的一部分或者位于所述衬底台上。

12.根据权利要求10或11所述的装置,其中所述传感器系统是对准传感器系统。

13.根据权利要求10或11所述的装置,还包括被配置为投影辐射束的辐射系统,并且其中所述控制系统被配置为使得通过使用来自所述装置的所述辐射系统的辐射束来印刷所述装置标记。

14.根据权利要求10或11所述的装置,其中所述控制系统被配置为使得通过利用所述装置标记烧蚀所述结构的表面来印刷所述装置标记。

15.根据权利要求10或11所述的装置,其中所述控制系统被配置为使得通过将利用图案形成装置而形成有图案的束投影到结构上以印刷所述装置标记,来印刷所述装置标记。

16.根据权利要求10或11所述的装置,其中所述结构包括具有表面涂层的板。

17.一种计算机可读存储介质,包括机器可读指令,所述机器可读指令用于使得处理器系统引起根据权利要求1至9中任一项所述的方法的执行。

18.一种用于校对的系统,包括:硬件处理器系统;以及非暂态计算机可读存储介质,其存储机器可读指令,其中所述机器可读指令当被执行时使得所述处理器系统引起根据权利要求1至9中任一项所述的方法的执行。

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