[发明专利]膜的制造方法在审
申请号: | 201780055274.2 | 申请日: | 2017-09-07 |
公开(公告)号: | CN109789440A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 中村诚吾;八重樫裕之 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B05D1/42 | 分类号: | B05D1/42;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/40;H01L51/48 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 张志楠;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 原料溶液 基板 涂布刮板 溶剂 制造 表面相对 溶剂干燥 对置面 均匀性 膜形成 对置 膜厚 薄膜 侧面 | ||
1.一种膜的制造方法,将包含形成膜的材料及溶剂的原料溶液供给到基板上,通过使所述溶剂干燥而将所述膜形成在所述基板上,所述膜的制造方法的特征在于,
使用在所述基板上保持所述原料溶液的涂布刮板,
所述涂布刮板具有:对置面,与所述基板的表面相对置;及至少1个侧面,设在所述对置面的周围,且与所述原料溶液接触,
使所述原料溶液的所述溶剂沿着特定方向干燥而形成所述膜。
2.根据权利要求1所述的膜的制造方法,其中,
至少所述涂布刮板的所述对置面及2个所述侧面这3面与所述原料溶液接触。
3.根据权利要求1或2所述的膜的制造方法,其中,
由所述涂布刮板的至少1个面确定干燥所述原料溶液的所述特定方向,该至少1个面是所述涂布刮板的所述对置面及至少2个所述侧面中的至少1个面。
4.根据权利要求1~3中任1项所述的膜的制造方法,其中,
仅由所述涂布刮板的1个面确定干燥所述原料溶液的所述特定方向,该1个面是所述涂布刮板的所述对置面及至少2个所述侧面中的1个面。
5.根据权利要求4所述的膜的制造方法,其中,
仅由所述涂布刮板的所述对置面,确定干燥所述原料溶液的所述特定方向。
6.根据权利要求1~5中任1项所述的膜的制造方法,其中,
所述涂布刮板具有2个侧面,2个所述侧面分别与所述基板的表面垂直,且相互对置设置。
7.根据权利要求1~6中任1项所述的膜的制造方法,其中,
所述涂布刮板的所述对置面相对于所述基板的表面倾斜。
8.根据权利要求7所述的膜的制造方法,其中,
所述涂布刮板的所述对置面相对于所述基板的表面的倾角为1°~6°。
9.根据权利要求1~8中任1项所述的膜的制造方法,其中,
被所述涂布刮板保持在所述基板上的所述原料溶液中,膜生长界面朝向所述原料溶液的中心而弯曲。
10.根据权利要求1~9中任1项所述的膜的制造方法,其中,
所述涂布刮板相对于所述基板的表面的位置是固定的。
11.根据权利要求1~9中任1项所述的膜的制造方法,其中,
所述涂布刮板具有开放所述原料溶液的周围的至少一部分的开放部,使所述基板向从所述原料溶液的中心朝向所述开放部的方向移动。
12.根据权利要求11所述的膜的制造方法,其中,
将所述原料溶液供给到所述基板的表面与所述涂布刮板之间,并且移动所述基板来连续形成所述膜。
13.根据权利要求1~12中任1项所述的膜的制造方法,其中,
将所述原料溶液的所述溶剂的沸点设为Tb℃,将基板温度设为Ts℃时,所述基板温度Ts保持在Tb-50℃≤Ts≤Tb的温度。
14.根据权利要求1~13中任1项所述的膜的制造方法,其中,
所述膜由具有取向性的材料形成。
15.根据权利要求14所述的膜的制造方法,其中,
所述具有取向性的材料为形成晶体的材料或有机半导体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780055274.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:叠层涂膜及涂装物
- 下一篇:用于多孔基底的抗剥离自修复涂料和着色剂