[发明专利]膜的制造方法

说明书

本发明提供一种薄膜且膜厚等的均匀性较高的优质的膜的制造方法。所述膜的制造方法为将包含形成膜的材料及溶剂的原料溶液供给到基板上，通过使溶剂干燥而将膜形成在基板上的膜的制造方法。使用在基板上保持原料溶液的涂布刮板，涂布刮板具有与基板的表面相对置的对置面、及设在对置面的周围的与原料溶液接触的至少1个侧面。使原料溶液的溶剂沿着特定方向干燥而形成膜。

技术领域

本发明是涉及一种基于涂布法的膜的制造方法，尤其涉及一种使用了有机半导体材料、晶体材料及取向材料等的膜的制造方法。

背景技术

当前，作为用于可挠性器件等的半导体材料期待有机半导体。有机半导体与硅等无机半导体相比，其特征之一为能够形成低温涂布。提出各种使用了有机半导体的有机半导体膜的制造方法。

专利文献1中，记载有使用了有机半导体材料的基于涂布法的有机半导体膜的制造方法。

专利文献1的有机半导体膜的制造方法中，在接触面与基板的表面之间设有楔状的间隙，当形成液滴保持状态时，原料溶液的液滴保持在基板的表面与接触面之间。在该状态下，以与接触面接触的方式供给原料溶液。在通过接触面而保持液滴的状态下进行干燥步骤，从而使液滴中的溶剂蒸发。与溶剂的蒸发一起进展有机半导体材料的晶体化，朝向接触面的封闭侧进行晶体的生长，逐渐形成有机半导体膜。

专利文献2中，记载有半导体膜的制造方法。专利文献2中，示出涂布于形成在栅极电极上的栅极绝缘膜的表面的边缘流延法。

边缘流延法中，在栅极绝缘膜上配置有喷嘴及刮板。从喷嘴向刮板的对置于栅极绝缘膜表面的边缘部分供给涂布液。喷嘴及基板保持在溶剂蒸发的温度。一边继续供给涂布液一边将基板向一方向移动，以使保持在边缘部分的涂布液的量变得恒定。从喷嘴供给的涂布液随着溶剂蒸发，有机半导体材料进行晶体化。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第5397921号公报

专利文献2：国际公开第2016/031968号

上述专利文献1的有机半导体膜的制造方法及专利文献2的半导体膜的制造方法中的任一方法均能够形成有机半导体膜。然而，关于有机半导体膜，现状是要求进一步的薄膜化、膜厚等的均匀性。

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明的目的在于，消除基于上述现有技术的问题点，并提供一种薄膜且膜厚等的均匀性较高的优质的膜的制造方法。

用于解决技术课题的手段

为了实现上述目的，本发明提供一种膜的制造方法，所述膜的制造方法为将包含形成膜的材料及溶剂的原料溶液供给到基板上，通过使溶剂干燥而将膜形成在基板上的膜的制造方法，所述方法的特征为，使用在基板上保持原料溶液的涂布刮板，涂布刮板具有与基板的表面相对置的对置面、及设在对置面的周围的与原料溶液接触的至少1个侧面，且使原料溶液的溶剂沿着特定方向干燥而形成膜。

优选至少涂布刮板的对置面及2个侧面这3面与原料溶液接触。

并且，优选由涂布刮板的对置面及至少2个侧面中的至少1个面确定干燥原料溶液的特定方向。

并且，优选仅由涂布刮板的对置面及至少2个侧面中的1个面确定干燥原料溶液的特定方向。并且，优选仅由涂布刮板的对置面确定干燥原料溶液的特定方向。

涂布刮板具有2个侧面，优选2个侧面分别与基板的表面垂直，且相互对置设置。

涂布刮板的对置面优选相对于基板的表面倾斜。涂布刮板的对置面相对于基板的表面的倾角优选为1°～6°。

被涂布刮板保持在基板上的原料溶液中，优选膜生长界面朝向原料溶液的中心而弯曲。