[发明专利]用于显示象形图的器件和用于制造器件的方法

说明书

提出一种器件(100)，所述器件具有载体(1)、半导体本体(2)和位于其间的镜层(3)，其中半导体本体具有有源层(23)，所述有源层设计成在器件运行时产生光。器件具有主面(101)，所述主面在器件运行时发光，其中主面的发光区域描绘呈象形图(P)的形式的视觉可检测的信息，其中象形图在主面的俯视图中具有轮廓，所述轮廓至少部分地通过镜层的轮廓限定，并且其中在对主面的俯视图中，器件具有如下外形，所述外形不同于象形图的轮廓。此外，提出一种适合于制造这种器件的方法。

技术领域

提出一种用于显示象形图(Piktogramm)的器件、尤其是光电子半导体芯片。此外提出一种用于制造器件的方法。

背景技术

为了显示象形图，通常使用传统的未结构化的光源来产生光，所述光经由掩模和光学装置投影成象形图。

发明内容

目的是，提出一种用于显示象形图的、具有特别紧凑的结构形式的器件，其中尤其放弃形成象形图的掩模。另一目的在于，提出一种简化的和有效的用于制造器件的方法。

在器件的至少一个实施方式中，所述器件具有载体、半导体本体和位于其间的镜层。半导体本体具有有源层，所述有源层在器件运行时构建为产生光，尤其在可见光谱范围中的光。器件具有主面，所述主面在器件运行时发光，其中主面的发光区域描绘呈象形图的形式的视觉可检测的信息。在主面的俯视图中，象形图具有如下轮廓，所述轮廓至少部分地通过镜层的轮廓限定。在主面的俯视图中，器件具有如下外形，所述外形不同于象形图的轮廓。

尤其是，器件的外形和象形图的外部轮廓具有不同的几何形状。器件的主面形成为辐射穿透面，尤其是形成为器件的辐射出射面。器件的主面可以具有半导体本体的表面和/或器件的载体的表面。在器件运行时，主面至少局部地发光，其中主面的发光区域优选限定形象图的形状。优选地，几何形状、尤其是主面的发光区域的外部轮廓在俯视图中通过半导体本体的有源层的形状预设。有源层的外部轮廓和主面的发光区域的外部轮廓可以基本上全等。尤其是，器件是光电子半导体芯片，如呈发光二极管(LED)的形式，其中器件的载体在此情况下构成为芯片载体，尤其是构成为半导体芯片的唯一的芯片载体。镜层可以直接邻接于半导体本体和/或载体。镜层尤其是p型镜层。换言之，镜层设置在p型侧，使得至少一个p型导电的半导体层设置在n型导电的半导体层和镜层之间。

通过镜层一方面至少部分地确定或限定象形图的轮廓并且另一方面在竖直方向上设置在半导体本体和载体之间从而在中部集成在器件中的方式，用于显示预设的象形图的器件可以特别紧凑地设计。镜层尤其在其材料方面构成为，使得射到其上的由有源层产生的光朝向主面射回。优选地，镜层在其材料选择方面构成为，使得所述镜层具有至少60％的反射率，例如至少70％、80％、90％或至少95％的反射率。例如，镜层由银形成。

竖直方向通常理解为如下方向，所述方向横向于、例如垂直于器件的或半导体本体的主延伸面定向。横向方向通常理解为如下方向，所述方向沿着尤其平行于器件的或半导体本体的主延伸面伸展。竖直方向例如是半导体本体的生长方向。竖直方向和横向方向尤其彼此垂直定向。

根据器件的至少一个实施方式，镜层和象形图在主面的俯视图中具有同种外部轮廓。这意味着，镜层和象形图或主面上的发光区域除了制造公差之外可以具有相同的几何形状的外部轮廓。在主面的俯视图中，半导体本体和象形图可以具有同种或不同的外部轮廓。半导体本体、尤其是半导体本体的第一半导体层和镜层在主面的俯视图中可以具有几何形状不同的形状和/或外部轮廓。替选地也可行的是，半导体本体、尤其是半导体本体的有源层、象形图和/或镜层在主面的俯视图中具有同种外部轮廓。如果半导体本体、如半导体本体的有源层和象形图在主面的俯视图中具有同种外部轮廓，则半导体本体本身结构化并且大致匹配于要成像的象形图的几何形状。在此情况下，象形图的轮廓基本上通过半导体本体的外部轮廓预设。优选地，半导体本体和镜层在俯视图中具有基本上同种外部轮廓，其在器件运行时确定象形图的外部轮廓。