[发明专利]蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模制备体、蒸镀图案形成方法、有机半导体元件的制造方法、有机EL显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780055858.X 申请日: 2017-09-27
公开(公告)号: CN109689922B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 小幡胜也;曾根康子;穗刈久实子 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陆悦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 蒸镀掩模 框架 制备 图案 形成 方法 有机半导体 元件 制造 有机 el 显示装置
【说明书】:

提供一种蒸镀掩模,其包括树脂掩模和金属层,所述树脂掩模具有与要蒸镀制作的图案对应的树脂掩模开口部,所述金属层局部地位于所述树脂掩模的一面上。

技术领域

本公开的实施方式涉及蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模制备体、蒸镀图案形成方法、有机半导体元件的制造方法、以及有机EL显示装置的制造方法。

背景技术

使用蒸镀掩模的蒸镀图案的形成通常通过如下方式进行:使设有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的蒸镀掩模和蒸镀对象物密合,使从蒸镀源放出的蒸镀材通过开口部而附着于蒸镀对象物。另外,该蒸镀掩模大多固定于框架,被用作带框架的蒸镀掩模。

作为上述蒸镀图案的形成所使用的蒸镀掩模,例如,已知有将具有与要蒸镀制作的图案对应的树脂掩模开口部的树脂掩模、和具有金属掩模开口部(有时也被称作狭缝)的金属掩模层积而成的蒸镀掩模(例如,专利文献1~5)等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:(日本)专利第5288072号公报

专利文献2:(日本)专利第5288073号公报

专利文献3:(日本)专利第5288074号公报

专利文献4:(日本)特开2014-218735号公报

专利文献5:(日本)专利第6163376号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本公开实施方式的主要课题在于,提供能够形成高精细蒸镀图案的蒸镀掩模等。

用于解决课题的技术方案

本公开一实施方式的蒸镀掩模包括:树脂掩模,其具有与要蒸镀制作的图案对应的树脂掩模开口部;金属层,其局部地位于所述树脂掩模的一面上。就所述蒸镀掩膜而言,也可以是,所述树脂掩模呈具有长边和短边的四边形,所述金属层是沿着所述树脂掩模的长边的带形状。

本公开另一实施方式的带框架的蒸镀掩模包括:所述本公开实施方式的蒸镀掩模;框架;所述蒸镀掩模经由其金属层固定于所述框架。另外,本公开另一实施方式的带框架的蒸镀掩模包括:所述本公开实施方式的蒸镀掩模;框架;所述蒸镀掩模经由其树脂掩模固定于所述框架。另外,本公开另一实施方式的带框架的蒸镀掩模包括:所述本公开实施方式的蒸镀掩模;框架;所述蒸镀掩模经由其树脂掩模和金属层这两者固定于所述框架。

本公开另一实施方式的蒸镀掩模制备体用于制造所述本公开实施方式的蒸镀掩模,其中,所述蒸镀掩模制备体包括:树脂板;金属层,其局部地位于所述树脂板的一面上。

另外,本公开另一实施方式的蒸镀图案制造方法所使用的蒸镀掩模是所述本公开实施方式的蒸镀掩模。

另外,本公开另一实施方式的有机半导体元件的制造方法包括使用蒸镀掩模在蒸镀对象物上形成蒸镀图案的蒸镀图案形成工序,所述蒸镀图案形成工序中使用的所述蒸镀掩模是所述本公开实施方式的蒸镀掩模。

另外,本公开另一实施方式的有机EL显示装置的制造方法中,使用由所述本公开实施方式的有机半导体元件的制造方法制造的有机半导体元件。

发明效果

根据本公开的蒸镀掩模等,能够形成高精细的蒸镀图案。

附图说明

图1中,(a)是表示对本公开实施方式的蒸镀掩膜从形成有金属层一侧俯视观察时的一例的正面图,(b)是(a)的A-A部分的概略剖面图;

图2是表示对本公开另一实施方式的蒸镀掩膜从形成有金属层一侧俯视观察时的一例的正面图;

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