[发明专利]含不饱和基团的碱溶性树脂和碱溶型放射线敏感性树脂组合物在审
申请号: | 201780056482.4 | 申请日: | 2017-10-18 |
公开(公告)号: | CN109715698A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 藤田贵史;六人部壮 | 申请(专利权)人: | 长濑化成株式会社 |
主分类号: | C08G63/553 | 分类号: | C08G63/553;G02B5/20;G03F7/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 崔立宇;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 不饱和基团 碱溶性树脂 丙烯酸酯 芴骨架 环氧 放射线敏感性树脂组合物 电学特性 反应物 碱溶性 密合性 四羧酸 酸二酐 分辨率 碱溶 显影 | ||
本发明提供一种酸值低、碱溶性、显影密合性、分辨率和电学特性优异的含不饱和基团的碱溶性树脂。提供一种含不饱和基团的碱溶性树脂,其特征在于,其为(a)具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯、(b)不具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯以及(c)四羧酸或其酸二酐的反应物。
技术领域
本发明涉及含不饱和基团的碱溶性树脂和碱溶型放射线敏感性树脂组合物。
背景技术
以往,具有芴骨架的碱溶性树脂由于颜料的分散性、耐化学药品性、电学特性、耐热性、灵敏度优异,适合用于在LCD的滤色器的制造中使用的黑矩阵形成用光致抗蚀剂、半导体制造用的光致抗蚀剂。作为具有芴骨架的碱溶性树脂,例如,专利文献1中提出了下述光聚合性不饱和化合物,其是利用使具有双酚芴骨架的环氧丙烯酸酯与四羧酸二酐反应而形成低聚物后利用二羧酸酐对末端羟基进行封链这样的二阶段反应得到的。
但是,对于专利文献1的光聚合性不饱和化合物来说,通常为了确保显影性而必须设计成高酸值,其结果,无法应对显影密合性、分辨率、电学特性等近年来的高度需求。例如,若为了提高电学特性而降低酸值,则存在碱溶性显著降低、无法取得与显影性的平衡的问题。其理由虽然尚未确定,但认为是具有芴骨架的树脂容易采取堆积结构、结晶性高,因此在使酸值降低的情况下碱溶性会显著降低。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2001-354735号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的目的在于提供一种酸值低、碱溶性、显影密合性、分辨率和电学特性优异的含不饱和基团的碱溶性树脂。
用于解决课题的手段
本发明人进行了深入研究,结果发现,通过将芴骨架的一部分置换成非芴骨架,能够破坏芴骨架的堆积结构。并且发现,将来自具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯的结构的一部分置换成来自不具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯的结构的含不饱和基团的碱溶性树脂即使在酸值低的情况下,碱溶性、显影密合性、分辨率和电学特性也优异,由此完成了本发明。
即,第一本发明的含不饱和基团的碱溶性树脂的特征在于,其为
(a)具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯、
(b)不具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯、以及
(c)四羧酸或其酸二酐
的反应物。
第一本发明的含不饱和基团的碱溶性树脂也可以为
(a)具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯、
(b)不具有芴骨架的环氧(甲基)丙烯酸酯、
(c)四羧酸或其酸二酐、以及
(d)二羧酸或者三羧酸或其酸酐
的反应物。
第一本发明的含不饱和基团的碱溶性树脂优选:(b)成分具有环状结构。
第二本发明的含不饱和基团的碱溶性树脂的特征在于,其由下述通式(1)表示。
[化1]
(通式(1)中,A相互独立地表示下述通式(2)或(3)所示的结构,通式(2)所示的结构与通式(3)所示的结构的摩尔比为通式(2):通式(3)=90:10~20:80,B相互独立地表示下述通式(4)所示的结构,C相互独立地表示氢原子或下述通式(5)所示的结构,l为重复数的平均值、且相互独立地表示0~20,m为重复数的平均值、且表示1~20,n相互独立地表示0~20的整数。)
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