[发明专利]处理超纯水的方法和系统

说明书

根据各个方面和实施方案，公开了一种用于精处理超纯水(UPW)的系统和方法。水精处理系统包括超纯水(UPW)源、具有入口和渗透物出口的超滤(UF)模块、连通渗透物出口与入口并形成再循环回路的再循环管道、沿着再循环管道设置在UF模块的入口的上游并流体联接到UPW源的再循环泵、流体联接到再循环管道和需求源的供应管道，以及压力控制阀，供应管道位于渗透物出口的下游，该压力控制阀沿着再循环管道设置在供应管道的下游并且被配置为将渗透物的压力保持在预定值。

相关申请

本申请根据35U.S.C.§119(e)要求2016年9月15日提交的标题为“POLISHINGULTRAFILTRATION PERFORMANCE ENHANCEMENT FOR VANOX POU,POU FILTRATION,HWC ANDFULL FLOW POLISHING UF”的序列号为62/394,788的美国临时申请和2016年12月16日提交的标题为“FILTRATION SYSTEM FOR INDUSTRIAL WATER TREATMENT”的序列号为62/435,119的美国临时申请的优先权，这些申请中的每一个通过引用以其整体并入本文。

发明领域

本发明总体上涉及水处理，并且更具体地，涉及用于超纯水(UPW)的水精处理系统(water polishing system)。

背景

半导体设计和制造的进步已经导致了越来越小且越来越强大的装置的发展。这些结构中使用的较小尺寸使其对用于制造这些装置的加工流体(例如UPW)中存在的较小颗粒的存在越来越敏感。20nm及更小的颗粒可能会显著影响某些半导体装置的产出。这些小颗粒的检测和去除已经证明是一个难以解决的问题。

概述

各方面和实施方案涉及用于超纯水中的颗粒控制的过滤。

根据一个实施方案，水精处理系统包括超纯水(UPW)源、具有入口和渗透物出口的超滤(UF)模块、连通渗透物出口与入口并形成再循环回路的再循环管道、沿着再循环管道设置在UF模块的入口的上游并流体联接到UPW源的再循环泵、流体联接到再循环管道和需求源的供应管道，以及压力控制阀，该供应管道位于渗透物出口的下游，该压力控制阀沿着再循环管道设置在供应管道的下游，并且被配置为将渗透物的压力保持在预定值。

在一个示例中，水精处理系统还包括压力传感器，该压力传感器沿着再循环管道定位在供应管道和压力控制阀之间，其中该压力传感器被配置成产生指示渗透物压力的压力信号。在一个示例中，水精处理系统还包括控制器，该控制器可操作地联接到压力传感器，并被配置为基于压力信号控制压力控制阀的操作。

在一个示例中，水精处理系统还包括流体连接到UPW源和再循环管道的UPW补充管道，以及混合点，在该混合点处，UPW补充管道流体连接到再循环管道，使得压力控制阀位于混合点和压力传感器之间，并且控制器被配置成操作压力控制阀，使得渗透物的压力保持在预定压力值。

在一个示例中，再循环泵位于混合点的下游，使得包括UPW和渗透物的流体以预定压力值被输送到再循环泵。

在一个示例中，再循环泵被配置成以预定的恒定速度操作。

在一个示例中，UF模块还包括用于来自UF模块的渗余物的排出出口和流体联接到排出出口的排出管道。

在一个示例中，水精处理系统还包括沿着再循环管道设置的储存罐(holdingtank)。

在一个示例中，水精处理系统还包括联接到UF模块的振动源。