[发明专利]具有防眩性及抗反射性的透明基板及其制造方法有效
申请号: | 201780058979.X | 申请日: | 2017-11-01 |
公开(公告)号: | CN109791222B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 柳川幸弘;齐藤昌宏;野村真一;松崎友哉 | 申请(专利权)人: | 福美化学工业株式会社 |
主分类号: | G02B1/111 | 分类号: | G02B1/111;B32B3/30;B32B7/02;B32B27/26;G02B5/02 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 鞠文军;姚开丽 |
地址: | 日本福井县福井*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 防眩性 反射 透明 及其 制造 方法 | ||
1.一种透明基板,为具备基材、抗反射层和半固化物层的中间层叠体的所述半固化物层经全固化而成的基板,所述基材具有透光性,所述抗反射层设于所述基材的至少一方的面,所述半固化物层设于所述基材与抗反射层之间,并由紫外线固化性树脂组合物的半固化物构成,其中,
所述抗反射层的表面具有不规则的凹凸结构,且所述凹凸结构的表面的算术平均粗糙度Ra为0.01~1.00μm、平均凹凸周期RSm为1~30μm,
所述抗反射层在最表层具备折射率为1.47以下且厚度为50~200nm的低折射率层,
所述半固化物层的杨氏模量为0.1~2.5GPa且全固化后的厚度为1.0~10.0μm,
所述中间层叠体的伸长率为105~150%,
所述紫外线固化性树脂组合物包含3官能团以下的聚氨酯丙烯酸酯、硅烷偶联剂及金属螯合化合物。
2.根据权利要求1所述的透明基板,其中,
所述紫外线固化性树脂组合物进一步包含氧化硅粒子。
3.根据权利要求2所述的透明基板,其中,
所述紫外线固化性树脂组合物进一步包含4官能团以上的聚氨酯丙烯酸酯。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的透明基板,其中,
所述抗反射层为多层构造,自所述基材侧起依次具备:中折射率层,其折射率超过1.47且低于1.65,厚度50~120nm;高折射率层,其折射率在1.60以上且比中折射率层的折射率高,厚度50~120nm;以及所述低折射率层。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的透明基板,其中,
进一步在所述基材与半固化物层之间具有阻隔层,该阻隔层含有4官能团以上的聚氨酯丙烯酸酯,且厚度为50~200nm。
6.根据权利要求4所述的透明基板,其中,
进一步在所述基材与半固化物层之间具有阻隔层,该阻隔层含有4官能团以上的聚氨酯丙烯酸酯,且厚度为50~200nm。
7.一种透明基板的制造方法,其包括:
工序(b):在具有透光性的基材的至少一方的面上,以全固化后的厚度达到1.0~10.0μm的方式涂布紫外线固化性树脂组合物,并进行半固化,从而在基材上形成半固化物层;
工序(c):在所述半固化物层上形成抗反射层而获得中间层叠体;
工序(d):使用转印面具有不规则凹凸结构的转印模具将其转印面的凹凸结构转印于所述中间层叠体的抗反射层表面,所述转印面的算术平均粗糙度Ra为0.01~1.25μm、平均凹凸周期RSm为1~30μm;
工序(e):在工序(d)之后使所述半固化物层全固化,
所述半固化物层的杨氏模量为0.1~2.5GPa,
所述中间层叠体的伸长率为105~150%,
所述紫外线固化性树脂组合物包含3官能团以下的聚氨酯丙烯酸酯、硅烷偶联剂及金属螯合化合物,
所述工序(c)至少包含下述工序(c-3),
工序(c-3):在所述半固化物层上形成折射率为1.47以下且厚度为50~200nm的低折射率层。
8.根据权利要求7所述的透明基板的制造方法,其中,
在所述工序(b)中,以150~500mJ/cm2的累积光量对基材上的紫外线固化性树脂组合物照射紫外线,使紫外线固化性树脂组合物半固化。
9.根据权利要求7或8所述的透明基板的制造方法,其中,
在所述工序(d)中,使用所述转印模具,在压力4~38MPa且温度60~150℃下,对所述中间层叠体的抗反射层表面进行加压处理而进行转印。
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