[发明专利]具有防眩性及抗反射性的透明基板及其制造方法

说明书

本发明提供一种透明基板(10)，为具备透光性基材(11)、抗反射层(14)和半固化物层(13s)的中间层叠体(1)的半固化物层(13)经全固化而成的基板，所述抗反射层(14)设于基材(11)的至少一方的面，所述半固化物层(13s)设于基材(11)与抗反射层(14)之间，由紫外线固化性树脂组合物的半固化物构成，其中，在抗反射层(14)的表面具有不规则的凹凸结构，且凹凸结构的表面算术平均粗糙度Ra为0.01～1.00μm、平均凹凸周期RSm为1～30μm，抗反射层(14)在最表层具备折射率1.47以下且厚度50～200nm的低折射率层(14a)，半固化物层(13s)的杨氏模量为0.1～2.5GPa且全固化后的厚度为1.0～10.0μm，中间层叠体(11)的伸长率为105～150％。

技术领域

本发明涉及具有防眩性及抗反射性的透明基板及其制造方法。

本申请基于2016年11月7日向日本申请的特愿2016-217349号主张优先权，并将其内容引用于此。

背景技术

在液晶显示装置(LCD)、等离子显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极管显示装置(CRT)等图像显示装置的显示面的全面面板及汽车仪表板、导航面板等，往往设有抗反射膜。

作为抗反射膜，已知有一种在基材上层叠了折射率不同的数层干涉膜的结构，通常以真空蒸镀法、溅镀法、涂覆法等方法制造。另外，还已知有一种使微粒子分散于薄膜材料，或使用压印模板等模具将模具的凹凸转印至薄膜表面，从而在薄膜表面形成有凹凸结构的抗反射膜。

近年来，提出了赋予抗反射膜防眩性的薄膜。例如，专利文献1中公开有制造防眩性薄膜的方法：使用通过放电加工制作的表面算术平均粗糙度Ra为0.3～1.0μm且平均凹凸周期RSm为5～30μm的压印模板，一边加热具有抗反射层的聚合物薄膜的一面，一边进行凹凸形成加工，制造防眩性薄膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-333936号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

然而，若如专利文献1所记载的那样，使用压印模板一边进行加热一边对抗反射层进行凹凸形成加工，则往往因抗反射层本身损伤或预先形成于抗反射层表面的凹凸结构破损而损害抗反射层原本功能(抗反射性)。另外，因抗反射性的表现变得不稳定，从而往往表面感觉很刺眼(具有光泽)。

作为赋予抗反射膜防眩性的方法，也考虑在已对表面进行粗面加工而赋予了防眩性的基材的加工面上利用涂覆法等来形成抗反射层的方法。

然而，在这种方法的情况下，难以以紧随加工面的凹凸形状的方式来涂覆涂液，会在凹部填充了所需量以上的涂液。其结果，凹凸的倾斜会变缓，难以发现期望的防眩性。

本发明的目的在于，提供具有防眩性及抗反射性的透明基板及其制造方法。

用于解决问题的技术方案

本发明具有以下方面。

[1]一种透明基板，为具备基材、抗反射层和半固化物层的中间层叠体的所述半固化物层经全固化而成的基板，所述基材具有透光性，所述抗反射层设于所述基材的至少一方的面，所述半固化物层设于所述基材与抗反射层之间，并由紫外线固化性树脂组合物的半固化物构成，其中，所述抗反射层表面具有不规则的凹凸结构，且所述凹凸结构的表面算术平均粗糙度Ra为0.01～1.00μm、平均凹凸周期RSm为1～30μm，所述抗反射层在最表层具备折射率为1.47以下且厚度为50～200nm的低折射率层，所述半固化物层的杨氏模量为0.1～2.5GPa且全固化后的厚度为1.0～10.0μm，所述中间层叠体的伸长率为105～150％。