[发明专利]压印基板

说明书

压印基板常常用于产生在电气、光学和生物化学应用中使用的小型化设备。压印技术(诸如纳米压印光刻)可能在基板的表面中留下残留物，其影响结合并降低所产生的设备的质量。介绍了为了提高的结合质量而具有无残留物区域或具有减少数量的残留物的区域的压印基板。还介绍了产生没有来自压印过程的残留物的压印基板的方法。方法包括物理去除法、选择性蚀刻法和能量施加法。这些方法可以在基板的表面中产生无残留物区域，其可用于产生更高强度的结合。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年9月27日提交的美国临时申请序列号62/400,332的权益，该申请的内容通过引用以其整体并入本文。

背景

本文公开的主题大体上涉及用于生物化学应用的流动池的制造的领域，以及更具体地涉及用于结合和封装的改进的基板表面的产生。

本章旨在向读者介绍可能与本公开的各种方面相关的技术的各种方面，这些方面在下面被描述和/或要求保护。这个讨论被认为在向读者提供背景信息以便于更好地理解本公开的各种方面时是有用的。因此，可以理解，这些陈述应该鉴于此被解释，而不是作为现有技术的承认。

使分子生物学实验的执行自动化的设备的开发通过大规模的研究促进了信息的获取。例如，联立实验(simultaneous experiment)的执行导致了在生物学中的几个发现。作为例子，高通量、自动DNA测序器使全基因组研究成为可能，这促使了几种人类疾病的遗传原因的发现。为了使分子生物学实验自动化，这些设备常常使用带有射流室的流动池，一些化学反应在其中发生。根据应用，该设备可以控制试剂的添加和产物从流动池的去除。该设备还可以被配置成监测反应并在整个过程中收集相关联的数据。增加这种设备的通量的一个常见策略是减小室的尺寸。这允许增加室的数量和因而增加在单次迭代中执行的联立反应的数量。

概述

下面阐述本文公开的某些例子的概述。应当理解，这些方面仅被提出来向读者提供这些某些例子的简要概述，以及这些方面并不意欲限制本公开的范围。事实上，本公开可以包括下面可能没有阐述的各种方面。

本公开的例子涉及用于封装和结合的压印基板表面的制备以及用该技术产生的设备。在一些例子中，基板表面通过压印技术后面是可能干扰基板的后续使用的残留物的去除来制备。在其他例子中，提出了产生具有减少数量的残留物或实质上没有残留物的表面的压印技术。在另外的例子中，公开了用这种技术产生的射流设备。

在一个例子中，提供了一种用于使用剥离技术来产生基板的技术。在该例子中，纳米压印光刻技术后面是将残留物焊接到另一层的需要残留物去除的区域中，以及剥离所结合的衬垫以去除大部分或全部不需要的残留物，并产生实质上没有残留物的区域。

在另一个例子中，提供了一种用于使用蚀刻技术来产生基板的技术。在这个例子中，保护性光致抗蚀剂被放置在纳米压印结构的顶部上，并且光致抗蚀剂以及不需要的纳米压印残留物被蚀刻掉。在一些实现方式中，蚀刻可以采用等离子体进行反应离子蚀刻。

在另一个例子中，提供了一种用于使用低残留物纳米压印技术来产生基板的技术。在这个例子中，在纳米压印光刻中使用的纳米压印模板被修改以产生实质上没有残留物的基板的区域而没有额外的或单独的残留物去除步骤。在一些实现方式中，纳米压印模板被进一步修改以允许树脂的更容易的流动，促进纳米压印过程。

本公开还提供了包含具有压印纳米结构的室的流动池。所提供的流动池设备使用高质量结合来产生，由所产生的无残留物或减少的残留物的压印基板促使。作为结果，流动池包含能够抵抗高压力而没有泄漏的室，并且可以用高通量方式被产生。

附图简述

当参考附图阅读下面的详细描述时，本公开的这些和其他特征和方面将变得更好理解，在所有附图中，相似的符号表示相似的部件，其中：

图1A和图1B分别示出了根据本公开的例子的流动池芯片的例子和流动池芯片的三个组成元件的分解图；