[发明专利]含酚羟基树脂及抗蚀剂材料

说明书

本发明目的在于，提供流动性优异、固化物的耐热性及耐干蚀刻性高的含酚羟基树脂、含有其的固化性组合物、及抗蚀剂材料，提供如下的含酚羟基树脂，其为下述结构式(1)(式中X表示碳原子数1～14的烃基。R¹各自独立地为脂肪族烃基、烷氧基、卤原子、芳基、芳烷基中的任意者。m为0、1或2，n为0或1～4的整数。)所示的双萘酚化合物(a1)与氰脲酰卤(a2)的反应产物，且多分散系数(Mw/Mn)为1.01～1.30的范围。

技术领域

本发明涉及流动性优异、固化物的耐热性及耐干蚀刻性高的含酚羟基树脂、含有其的固化性组合物、及抗蚀剂材料。

背景技术

在光致抗蚀剂的领域中，相继开发了根据用途、功能细分化的多种多样的抗蚀图案形成方法，随之，对抗蚀剂用树脂材料的要求性能也高度化并且多样化。例如，对图案形成用的树脂材料要求能够正确并且以高生产效率在经高集成化的半导体形成微细的图案这样的高显影性。在被称为下层膜、防反射膜、BARC膜、硬掩模等的用途中，要求耐干蚀刻性、低反射性、对具有凹凸的基材表面也可应对的高的流动性等。另外，在被称为永久抗蚀膜等的用途中，除了高耐热性，还要求基材追随性等韧性。进而，从品质可靠性的观点出发，在世界各国的各种环境下的长期保存稳定性也是重要的性能之一。

作为适于光致抗蚀剂用的树脂材料之一，已知有萘酚酚醛清漆型树脂(参照下述专利文献1)。萘酚酚醛清漆型树脂具有源自刚性的萘骨架从而耐干蚀刻性优异的特征，但由于流动性低，因此对具有凹凸的基材表面的涂布性低，得到的膜的表面平滑性也不充分。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-248435号公报

发明内容

发明要解决的问题

因此，本发明要解决的问题在于，提供流动性优异、固化物的耐热性及耐干蚀刻性高的含酚羟基树脂、含有其的固化性组合物、及抗蚀剂材料。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现，作为双萘酚化合物与氰脲酰卤的反应产物、且多分散系数(Mw/Mn)为1.01～1.30的范围的含酚羟基树脂的流动性高，因此对具有凹凸的基材面的涂布性优异，固化物的耐热性、耐干蚀刻性也优异，从而完成了本发明。

即，本发明涉及一种含酚羟基树脂，其为下述结构式(1)所示的双萘酚化合物(a1)与氰脲酰卤(a2)的反应产物，且多分散系数(Mw/Mn)为1.01～1.30的范围。

(式中X表示碳原子数1～14的烃基。R¹各自独立地为脂肪族烃基、烷氧基、卤原子、芳基、芳烷基中的任意者。m为0、1或2，n为0或1～4的整数。)

本发明还涉及一种固化性组合物，其含有前述含酚羟基树脂和固化剂。

本发明还涉及一种固化物，其为前述固化性组合物的固化物。

本发明还涉及一种抗蚀剂材料，其使用了前述固化性组合物。

发明的效果

根据本发明，能够提供流动性优异、固化物的耐热性及耐干蚀刻性高的含酚羟基树脂、含有其的固化性组合物、及抗蚀剂材料。

附图说明

图1为实施例1中得到的含酚羟基树脂(1)的GPC图。

具体实施方式