[发明专利]3D半导体器件及结构在审

专利信息
申请号: 201780061048.5 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN109952643A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 兹维·奥巴赤;金武韩;布瑞恩·克朗奎斯特;伊莱·乐斯基 申请(专利权)人: 三维单晶公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L21/8238;H01L27/11551;H01L27/108;H01L27/11
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 张明
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 位单元阵列 位线 垂直 第一层 控件 半导体器件 可用 覆盖
【权利要求书】:

1.一种3D器件,其特征在于,所述器件包括:

第一层,所述第一层包括第一位单元阵列,所述第一位单元阵列包括三个独立的第一行;

第二层,所述第二层包括第二位单元阵列,所述第二位单元阵列包括三个独立的第二行;

其中所述第二层覆盖所述第一层;以及

至少三个垂直位线,所述至少三个垂直位线中的每个连接至相应的三个水平第一位线和三个水平第二位线,

其中所述三个水平第一位线包括所述第一位单元阵列的控件,

其中所述三个水平第二位线包括所述第二位单元阵列的控件,并且

其中所述三个垂直位线中的每个可用于控制所述三个独立的第一行中的不同一行,或控制所述三个独立的第二行中的不同一行。

2.根据权利要求1所述的3D器件,

其特征在于,所述三个水平第一位线的间隔小于200nm。

3.根据权利要求1所述的3D器件,

其特征在于,所述三个水平第一位线中的每个包括传输晶体管,以控制对所述第一位单元阵列的相应行的接入。

4.根据权利要求1所述的3D器件,

其特征在于,所述第一层通过熔融粘合或通过混合粘合与所述第二层粘合。

5.根据权利要求1所述的3D器件,其特征在于,所述3D器件还包括:

第三层,所述第三层覆盖所述第二层,

其中所述第三层包括至少三个位线解码器,所述至少三个位线解码器中的一个用于所述三个垂直位线中的每个。

6.一种3D器件,其特征在于,所述器件包括:

第一层,所述第一层包括第一位单元阵列,所述第一位单元阵列包括三个独立的第一行;

第二层,所述第二层包括第二位单元阵列,所述第二位单元阵列包括三个独立的第二行;

其中所述第二层覆盖所述第一层;以及

至少三个垂直字线,所述至少三个垂直字线中的每个连接至相应的三个水平第一字线和三个水平第二字线,

其中所述三个水平第一字线包括所述第一位单元阵列的控件,

其中所述三个水平第二字线包括所述第二位单元阵列的控件,并且

其中所述三个垂直字线中的每个可用于控制所述三个独立的第一行中的不同一行,或控制所述三个独立的第二行中的不同一行。

7.一种3D器件,其特征在于,所述器件包括:

第一层单元阵列,所述单元阵列包括第一单元和第二单元,所述第一单元包括第一位单元阵列,所述第二单元包括第二位单元阵列,

其中所述第一位单元阵列包括第一和第二行位单元,所述第一和第二行位单元分别由第一和第二位线控制,并且

其中所述第二位单元阵列包括第三和第四行位单元,所述第三和第四行位单元分别由第三和第四位线控制;以及

第一晶体管,所述第一晶体管控制所述第一位线与所述第三位线的连接;以及

第二晶体管,所述第二晶体管控制所述第二位线与所述第四位线的连接。

8.根据权利要求7所述的3D器件,

其中所述第一位线和所述第二位线的间隔小于200nm。

9.根据权利要求7所述的3D器件,其特征在于,所述3D器件还包括:

第三晶体管,所述第三晶体管控制所述第一位线与所述第三位线的连接。

10.一种3D器件,其特征在于,所述器件包括:

第一层单元阵列,所述单元阵列包括第一单元和第二单元,所述第一单元包括第一位单元阵列,所述第二单元包括第二位单元阵列,

其中所述第一位单元阵列包括第一和第二行位单元,所述第一和第二行位单元分别由第一和第二字线控制,并且

其中所述第二位单元阵列包括第三和第四行位单元,所述第三和第四行位单元分别由第三和第四字线控制;以及

第一晶体管,所述第一晶体管控制所述第一字线与所述第三字线的连接;以及

第二晶体管,所述第二晶体管控制所述第二字线与所述第四字线的连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三维单晶公司,未经三维单晶公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780061048.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top