[发明专利]与工艺杂质的结合降低的抗体在审
申请号: | 201780061885.8 | 申请日: | 2017-10-03 |
公开(公告)号: | CN109790216A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | H.博斯蒂尔斯;陈书贵;K.法罗;R.库恰-特兰;W.J.K.刘易斯;A.S.汤森;M.尤登 | 申请(专利权)人: | 葛兰素史克知识产权开发有限公司 |
主分类号: | C07K16/00 | 分类号: | C07K16/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 任晓华;周齐宏 |
地址: | 英国米德*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 变体 工艺杂质 抗体 修饰 宿主细胞蛋白 重链恒定区 变体抗体 水平降低 组合处 氨基酸 | ||
1.变体IgG4抗体,其在重链恒定区中的Kabat残基203和256之间的区域中的氨基酸的任一个或组合处已经被修饰,其中所述变体IgG4抗体相比于未修饰的IgG4抗体具有与宿主细胞蛋白(HCP)的降低的结合水平。
2.根据权利要求1所述的变体IgG4抗体,其中所述修饰包括:
(a) 至IgG1、IgG2和/或IgG3抗体种系序列中的等同氨基酸序列的一个或多个取代;和/或
(b) 在Kabat残基203和256之间的区域中的氨基酸的任一个或组合的缺失;和/或
(c) 在Kabat残基203和256之间的区域中的一个或多个氨基酸的插入。
3.根据权利要求1或2所述的变体IgG4抗体,其中所述修饰包括:
(a) 在Kabat残基226和243之间(包括Kabat残基226和243)的铰链区的一个或多个氨基酸的修饰;和/或
(b) Kabat残基203的修饰;和/或
(c) Kabat残基222的修饰;和/或
(d) 一个或多个氨基酸的取代,包括:K203取代成R、E或Q;R222取代成T、K或Q;E226取代成L或I;S227取代成R、P、A、N或T;Y229取代成S、C、F、W或H;G230取代成C、A、N或S;P237取代成H、E、D或V;和/或P238取代成T、K或E;和/或
(e) 用EPKSCDKTHT (SEQ ID NO:27)或ERKYGPP (SEQ ID NO:28)或ERKCCVE (SEQ IDNO:29)或ELKTPLGDTTHT (SEQ ID NO:30)替换ESKYGPP (SEQ ID NO:26) (Kabat残基226至238);和/或
(f) 用SCDKTHT (SEQ ID NO:24)或CCVE (SEQ ID NO:25)替换YGPP (SEQ ID NO:23)(Kabat残基229至238)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的变体IgG4抗体,其中所述IgG4抗体相比于未修饰的IgG4抗体具有降低的与宿主细胞蛋白(HCP)的结合亲和力和/或结合活性。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的变体IgG4抗体,其中所述变体IgG4抗体包含S241取代成P和/或L248取代成E的进一步取代和/或用PAAAP (SEQ ID NO:33)或PAAAS (SEQ IDNO:32)替换EFLGGP (SEQ ID NO:31)(Kabat残基246至251)。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的变体IgG4抗体,其中所述变体IgG4抗体包含序列CPPC (SEQ ID NO:20)(Kabat残基239至242)。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的变体IgG4抗体,其中相比于未修饰的IgG4抗体,未在重链恒定区中作出进一步修饰。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的变体IgG4抗体,其中所述宿主细胞蛋白是推定的磷脂酶B样2 (PLBL2)。
9.细胞系,其编码权利要求1至8中任一项的变体IgG4抗体。
10.修饰IgG抗体以降低对工艺杂质的结合的方法,其包括以下步骤:
a) 鉴定参与工艺杂质的结合的至少一个氨基酸;和
b) 通过用不同氨基酸取代鉴定为参与与工艺杂质的结合的氨基酸来产生所述IgG抗体的变体。
11.根据权利要求10所述的方法,其中使用用于研究蛋白-蛋白相互作用的方法或方法的组合,来鉴定参与工艺杂质的结合的氨基酸。
12.根据权利要求11所述的方法,其中用于研究蛋白-蛋白相互作用的方法是氢氘交换质谱(HDX-MS)。
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