[发明专利]光偏转装置,照明装置和应用在审
申请号: | 201780061921.0 | 申请日: | 2017-10-04 |
公开(公告)号: | CN110366657A | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 安德里斯·奈尔;赫尔穆特·弗兰克·奥托马尔·米勒 | 申请(专利权)人: | 泰米科公司 |
主分类号: | F21V8/00 | 分类号: | F21V8/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张凯;张杰 |
地址: | 德国多*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光导 光偏转装置 照明装置 微结构 透明覆盖层 结构元件 地平面 覆盖层 平面的 耦合到 光解 凸起 施加 透明 应用 | ||
1.光偏转装置,所述光偏转装置包括:
-平面的透明光导(4,4')和
-至少部分地平面施加在该光导上的透明覆盖层(6,6'),
其中在光导(4,4')和覆盖层(6,6')之间形成有用于将耦合到光导(4,4')中的光解耦的微结构(20,20'),并且其中微结构(20)具有多个结构元件(20a,20a'),所述结构元件形成为基本上圆柱形的凸起(20a,20a')。
2.根据权利要求1所述的光偏转装置,其中微结构(20,20')形成在覆盖层(6)面向光导(4)的表面上。
3.根据权利要求2所述的光偏转装置,其中所述覆盖层(6,6')的与微结构(20,20')相对的表面基本上是平的。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的光偏转装置,其中所述光导(4,4')至少部分地由玻璃或塑料构成。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的光偏转装置,其中所述覆盖层(6,6')设计为箔膜。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的光偏转装置,其中所述光导(4,4')的厚度为至少1mm,优选至少2mm,更优选至少3mm和/或至多15mm的厚度,优选至多10mm,更优选最多8毫米。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的光偏转装置,其中所述覆盖层(6,6')至少部分地由玻璃或塑料构成。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的光偏转装置,其中所述覆盖层(6,6')的厚度为至多1000μm,优选至多500μm,更优选至多300μm和/或至少50μm,优选至少100μm,更优选至少150μm。
9.根据权利要求1至8中任意一项所述的光偏转装置,其中所述覆盖层(6,6')与所述光导(4,4')材料配合地连接。
10.根据权利要求1至9中任意一项所述的光偏转装置,其中结构元件(20a,20a')以这样的方式形成,使得耦合到光导(4,4')中的光基本上通过结构元件(20a,20a')的圆柱侧面解耦。
11.根据权利要求1至10中任意一项所述的光偏转装置,其中由结构元件(20a,20a')的高度(h)和横截面对角线(c)包围的角度小于或等于光导(4)和/或覆盖层(6,6')中的全反射的临界角。
12.根据权利要求1至11中任意一项所述的光偏转装置,其中微结构(20,20')的结构元件(20a,20a')具有基本恒定的排列密度。
13.根据权利要求1至12中任意一项所述的光偏转装置,其中光导(4,4')用于耦合的边缘(14,14a,14b,14c,14d)具有表面修饰(24a,24b,24c,24d,24e,24f)。
14.根据权利要求1至13中任意一项所述的光偏转装置,其中微结构(20,20')借助于型材轧辊制造,特别是借助于利用压花辊的UV压花来制造。
15.照明装置,所述照明装置具有:
-根据权利要求1至14中任意一项所述的光偏转装置(2,2'),以及
-布置在光导(4,4')的边缘(14,14a,14b,14c,14d)处的照明源(8,8a,8b,8c,8d),所述照明源用于通过光导(4,4')的边缘(14,14a,14b,14c,14d)耦合光。
16.根据权利要求15所述的照明装置,其中微结构(20,20')的结构元件(20a,20a')至少区域性具有随着与至少一个照明源(8,8a,8b,8c,8d)的距离增加而基本上增加的布置密度。
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