[发明专利]液晶单元的制造方法和液晶单元

说明书

本发明的液晶单元的制造方法具备：薄膜形成工序，在一对带电极的基板中的至少一方带电极的基板的表面形成薄膜，上述一对带电极的基板包括：TFT基板，其具有第1电介质基板、支撑于上述第1电介质基板的多个TFT和电连接到上述TFT的多个贴片电极；以及缝隙基板，其具有第2电介质基板、支撑于上述第2电介质基板的包含多个缝隙的缝隙电极，在该薄膜形成工序中，上述薄膜是以覆盖上述贴片电极和/或上述缝隙电极的形式来形成；以及光照射工序，向上述薄膜照射包含p偏振光的光，得到对上述薄膜赋予使液晶分子取向的取向限制力而成的取向膜，上述液晶单元的制造方法的特征在于，上述薄膜包含聚合物，该聚合物具有光反应性官能基，沿着与上述p偏振光的偏振轴正交的方向表现出上述薄膜的取向限制力。

技术领域

本发明涉及液晶单元的制造方法和液晶单元。

背景技术

移动通讯、卫星广播等所利用的天线需要可改变波束方向的波束扫描功能。作为具有这种功能的天线，提出了利用液晶材料(包括向列型液晶、高分子分散液晶)的大的介电各向异性(双折射率)的扫描天线(例如，专利文献1～3)。这种扫描天线具备在一对带电极的基板间夹着液晶层而成的液晶单元。

在上述基板上，在与液晶层接触的一侧的面上以覆盖电极的形式形成有取向膜。取向膜包括高分子材料，在液晶单元的制造过程中使上述基板彼此贴合之前被实施规定的取向处理，由此表现出使液晶层中的液晶分子向规定方向取向的功能。

在对取向膜进行照射光(例如偏振紫外线)的取向处理(所谓光取向处理)的情况下，使用光反应性的高分子材料作为取向膜。然后，从空气界面侧(表侧)对这样的取向膜照射光，从而使高分子材料发生光反应。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特表2013-539949号公报

专利文献2：特表2016-512408号公报

专利文献3：特表2009-538565号公报

发明内容

发明要解决的问题

在扫描天线用的液晶单元中，构成电极的材料使用铜(Cu)、铝(Al)等金属材料。因此，在取向膜的下侧配置有包括容易反射光的材料的电极。

当在液晶单元的制造过程中对这种取向膜实施光取向处理时，在取向膜中，不仅会由于从表侧供应的光，也会由于被电极反射而从里侧供应的光致使高分子材料发生光反应。这样，由来自表侧的光赋予的取向功能会由于反射光所致的光反应的影响而减少，根据情况而有时会被完全抵消。

本发明的目的在于提供一种在光取向处理时能不受反射光的影响地对取向膜赋予取向限制力的液晶单元的制造方法和液晶单元。

用于解决问题的方案

本发明的液晶单元的制造方法具备：薄膜形成工序，在一对带电极的基板中的至少一方带电极的基板的表面形成薄膜，上述一对带电极的基板包括：TFT基板，其具有第1电介质基板、支撑于上述第1电介质基板的多个TFT和电连接到上述TFT的多个贴片电极；以及缝隙基板，其具有第2电介质基板、支撑于上述第2电介质基板的包含多个缝隙的缝隙电极，在该薄膜形成工序中，上述薄膜是以覆盖上述贴片电极和/或上述缝隙电极的形式来形成；以及光照射工序，向上述薄膜照射包含p偏振光的光，得到对上述薄膜赋予使液晶分子取向的取向限制力而成的取向膜，上述液晶单元的制造方法的特征在于，上述薄膜包含聚合物，该聚合物具有光反应性官能基，沿着与上述p偏振光的偏振轴正交的方向表现出上述薄膜的取向限制力。

优选在上述液晶单元的制造方法中，上述薄膜通过使上述聚合物的上述光反应性官能基异构化而表现出上述取向限制力。