[发明专利]有搪瓷涂层的腔体、包括腔体的烹饪器具及制造腔体的方法

权利要求书

1.一种用于烹饪器具(2)、特别是烤箱的腔体(4)，其中，该腔体(4)包括

-腔体壁(8a，8b，8c，8d)，这些腔体壁限定用于烹饪食物的烹饪室(6)，以及

-中央开口，该中央开口用于将食物放入该烹饪室(6)中，

其特征在于，

-这些腔体壁(8a，8b，8c，8d)中的至少一个壁的至少一个表面涂覆有包含铝的层(10)，其中，所述层(10)进一步包括由具有低软化点的搪瓷制成的第一涂层(14)。

2.根据权利要求1所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第一涂层(14)是软化点在450℃与560℃之间的搪瓷。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第一涂层(14)包含铝。

4.根据以上权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第一涂层(14)包含聚四氟乙烯。

5.根据以上权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

这些腔体壁(8a，8b，8c，8d)由低碳钢板制成。

6.根据以上权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该层(10)包括氧化铝层(10a)、以及包含铝和铁的金属间化合物层(10b)。

7.根据以上权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

这些腔体壁(8a，8b，8c，8d)中的至少一个壁的所述表面是这些腔体壁(8a，8b，8c，8d)的内表面。

8.根据以上权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

这些腔体壁(8a，8b，8c，8d)中的至少一个壁的外表面包括第二涂层(16)。

9.根据权利要求8所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第二涂层(16)包含具有低发射率的反射材料。

10.根据权利要求8或9中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第二涂层(16)包含铝。

11.根据以上权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

包含铝的该层(10)的厚度在15μm与25μm之间，和/或该第一涂层(14)的厚度大约是30μm和60μm或在二者之间，和/或该第二涂层(16)的厚度在30μm与60μm之间。

12.一种烹饪器具(2)、特别是烤箱，包括

-可加热腔体(4)，

-用于加热所述腔体(4)的加热元件，以及

-用于关闭该腔体(4)、特别是用于关闭该腔体的中央开口的门，

其特征在于

该可加热腔体(4)是根据权利要求1至11中任一项所述的腔体(4)。

13.一种制造用于烹饪器具(2)、特别是烤箱的腔体(4)的方法，该方法至少包括以下步骤：

-提供至少一个腔体壁(8a，8b，8c，8d)，该至少一个腔体壁具有涂覆有包含铝的层(10)的至少一个表面，

-通过借助于激光焊接将这些腔体壁(8a，8b，8c，8d)、以及另外的部件连接在一起来提供该腔体(4)，

14.根据权利要求13所述的方法，

其特征在于，

所述表面是该腔体(4)的内表面并且该激光器(20)从外侧焊接这些腔体壁(8a，8b，8c，8d)。

15.根据权利要求13或14中任一项所述的方法，

其特征在于，

在该腔体(4)的部件已经借助于激光器(20)焊接在一起之后，由具有低软化点的搪瓷制成的第一涂层(14)被施加到所述层(10)上。