[发明专利]光合波器

说明书

两个输入波导(21、22)由半导体材料制成。一个输出波导(31)由半导体材料制成。多模干涉部(10)由半导体材料制成。多模干涉部(10)具有入射端面(10a)以及出射端面(10b)，该入射端面连接输入波导(21、22)，该出射端面与入射端面(10a)对置并连接输出波导(31)。多模干涉部(10)具有与输入波导(21、22)以及输出波导(31)的波导宽度相比更宽的波导宽度。两个无用光波导(41、42)由半导体材料制成。无用光波导(41、42)以夹着输出波导(31)的方式连接于多模干涉部(10)的出射端面(10b)。无用光波导(41、42)中的各个无用光波导满足单模条件。

技术领域

本发明涉及一种光合波器，特别是涉及多模干涉型光合波器。

背景技术

作为光集成电路中的光合波器而利用了多模干涉型光合波器。在多个光源的集成化的发展中，要求光合波器的低损耗化以及低反射化。

例如，根据日本特开2010-237376号公报(专利文献1)，公开了一种在电介质基板的表面形成有马赫-曾德尔型波导的光调制器。作为电介质，例如使用铌酸锂。马赫-曾德尔型波导的出射侧的Y合波部的合波后的波导是多模波导。在多模波导被变更为输出主波导的部位连接有输出副波导。输出副波导是导出放射模式光的高阶模式用波导。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-237376号公报

发明内容

在上述公报所记载的技术中，由作为强电介质材料的铌酸锂等形成波导。若由半导体材料形成具有同样功能的波导，则其设计尺寸变为1/10以下。因此，输出主波导与作为高阶模式用波导的输出副波导之间的间隔变窄。因此，用于形成这些波导的、基于蚀刻的精细加工变得困难。因此，波导的形状易于偏离设计。其结果，可能增加不希望的光的反射。

本发明是为了解决以上那样的课题而作出的，其目的在于提供能够减少光的反射的光合波器。

本发明的光合波器具有两个输入波导、一个输出波导、多模干涉部和两个无用光波导。输入波导由半导体材料制成。输出波导由半导体材料制成。多模干涉部由半导体材料制成。多模干涉部具有入射端面以及出射端面，该入射端面连接输入波导，该出射端面与入射端面对置并连接输出波导。多模干涉部具有与输入波导以及输出波导的波导宽度相比更宽的波导宽度。无用光波导由半导体材料制成。无用光波导以夹着输出波导的方式连接于多模干涉部的出射端面。无用光波导中的各个无用光波导满足单模条件。

发明效果

根据本发明，无用光波导满足单模条件。由此，与无用光波导不满足单模条件的情况相比，无用光波导的波导宽度变小。因此，各个无用光波导与输出波导之间的间隔变宽。因此，用于形成这些波导的、基于蚀刻的精细加工变得容易。因此，能够高精度地使波导的形状成为依照设计的形状。其结果，能够抑制因加工误差引起的光的反射的增加。即，能够减少光的反射。由此，改善光波形。

本发明的目的、特征、方面以及优点通过以下的详细说明和附图会变得更为明了。

附图说明

图1是概略地示出本发明的实施方式1的光合波器的结构的俯视图。

图2是概略地示出本发明的实施方式1的光合波器的结构的立体图。

图3是示出本发明的实施方式1的光合波器中的透射光的光强度分布的计算结果的例子的俯视图。

图4是示出输出波导和无用光波导之间的角度与反射率的关系的计算结果的例子的图。

图5是示出比较例中的光合波器的结构的俯视图。

图6是示出比较例中的光合波器的结构的俯视图。