[发明专利]光纤母材的制造方法

权利要求书

1.一种光纤母材的制造方法，是用于制造具有由二氧化硅玻璃形成的纤芯和形成于所述纤芯的外周的包层的光纤的光纤母材的制造方法，具有如下工序：

蚀刻工序，将成为所述纤芯的纤芯母材的表面，在腔室内用等离子火焰进行蚀刻处理，

沉积工序，在将所述纤芯母材放入所述腔室内的状态下，在所述纤芯母材的蚀刻处理面使玻璃微粒沉积而形成成为所述包层的外部气相沉积层，得到多孔母材，以及

烧结工序，将所述多孔母材加热进行烧结，

并且，所述沉积工序中，通过多次重复进行基于供给原料气体的所述玻璃微粒的沉积而形成所述外部气相沉积层，

所述多次的玻璃微粒的沉积中的至少最初一次的所述原料气体的流量相对于稳定值为50％以下，

所述原料气体的所述流量，在所述多次的玻璃微粒的沉积的总沉积次数中，从开始到21％为止的范围中的至少任一个所述沉积中达到所述稳定值，

并且，开始所述沉积工序时的所述纤芯母材的蚀刻处理面的温度为50℃以上。

2.根据权利要求1所述的光纤母材的制造方法，其中，所述沉积工序中，在所述原料气体的流量从最初一次的所述沉积时的流量达到稳定值为止，连续增加所述原料气体的流量。

3.根据权利要求1或2所述的光纤母材的制造方法，其中，所述外部气相沉积层的堆密度的平均为0.17g/cm³～0.33g/cm³。

4.根据权利要求1或2所述的光纤母材的制造方法，其中，在所述沉积工序之后且所述烧结工序之前，在含有氯原子的气体的气氛下加热所述多孔母材。

5.根据权利要求1或2所述的光纤母材的制造方法，其中，所述烧结工序后的外部气相沉积层的外径为所述纤芯母材的外径的5倍以下。

6.根据权利要求1或2所述的光纤母材的制造方法，其中，所述蚀刻工序中，将所述纤芯母材的外径减小0.5mm以上。

7.根据权利要求1或2所述的光纤母材的制造方法，其中，在所述蚀刻工序之后且所述沉积工序之前，通过等离子火焰加热所述纤芯母材。