[发明专利]光纤母材的制造方法

说明书

光纤母材的制造方法是用于制造具有由二氧化硅玻璃形成的纤芯和形成于上述纤芯的外周的包层的光纤的光纤母材的制造方法，具有如下工序：将成为上述纤芯的纤芯母材的表面在腔室内用等离子火焰进行蚀刻处理的蚀刻工序，在将上述纤芯母材放入上述腔室内的状态下，使玻璃微粒沉积于上述纤芯母材的蚀刻处理面而形成成为上述包层的外部气相沉积层，由此得到多孔母材的沉积工序，以及将上述多孔母材加热进行烧结的烧结工序，并且，上述沉积工序中，通过多次重复进行基于原料气体的供给的上述玻璃微粒的沉积而形成上述外部气相沉积层，上述多次的玻璃微粒的沉积中的至少最初一次的上述原料气体的流量相对于稳定值为50％以下，开始上述沉积工序时的上述纤芯母材的蚀刻处理面的温度为50℃以上。

技术领域

本发明涉及光纤母材的制造方法。

本申请基于2016年10月25日在日本提出申请的日本特愿2016－208687号主张优先权，将其内容援引于此。

背景技术

与一般的掺杂锗的纤芯光纤(纤芯采用掺杂有锗的二氧化硅玻璃，包层采用纯的二氧化硅玻璃)相比，在纤芯采用纯的二氧化硅玻璃，在包层采用掺杂有氟的二氧化硅玻璃的所谓的二氧化硅纤芯光纤能够实现低的传输损耗。这是由于纤芯由纯的二氧化硅玻璃形成，因此实质上没有浓度波动，瑞利散射变小。

用于制造这样的光纤的光纤母材，例如可以如专利文献1所记载的那样通过如下方法制造：通过VAD法制作纤芯母材后，将该纤芯母材放入成为内侧包层的管内，通过塌缩而与管一体化，进而，通过外部气相沉积法形成成为外侧包层的层等方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第5771943号公报

发明内容

但是，通过专利文献1所记载的方法来制作光纤母材时，由于纤芯母材和管各自具有尺寸和折射率的偏差，所以为了以最佳的组合进行一体化，需要准备多个纤芯母材和多个管。此外，纤芯母材和管在长边方向上外径、内径不是恒定的，因此有时在长边方向上特性存在偏差。

此外，专利文献1的制造方法中，需要在一般的Ge纤芯光纤的制造中通常不需要的管的制作工序(开孔、清洗等)和塌缩工序，因此成本高。此外，在开孔、清洗中容易混入杂质，传输损耗容易变大。而且，若管的壁厚较厚，则不容易进行塌缩，因此不适于母材的大型化。

若在内侧包层的形成中采用外部气相沉积法，则可以在某种程度上解决这样的问题。

但是，二氧化硅纤芯光纤中，若为了防止在纤芯母材与内侧包层之间的剥离、偏移而提高烟炱沉积层的堆密度，则有可能在内侧包层作为掺杂剂的氟的扩散变得不充分。

如果降低烟炱沉积层的形成时的原料气体的流量，则可改善氟的扩散，但在这种情况下，有可能生产率降低。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其课题在于提供一种光纤母材的制造方法，其可以改善烟炱沉积层中的氟扩散，且可以防止烟炱沉积层的偏移·剥离，进而，生产率不易降低。

本发明的一个方式所涉及的光纤母材的制造方法是用于制造具有由二氧化硅玻璃形成的纤芯和形成于上述纤芯的外周的包层的光纤的、光纤母材的制造方法，其具有如下工序：将成为上述纤芯的纤芯母材的表面在腔室内用等离子火焰进行蚀刻处理的蚀刻工序，在将上述纤芯母材放入上述腔室内的状态下，使玻璃微粒沉积于上述纤芯母材的蚀刻处理面而形成成为上述包层的外部气相沉积层，由此得到多孔母材的沉积工序，以及将上述多孔母材加热进行烧结的烧结工序，并且，上述沉积工序中，通过多次重复进行基于原料气体的供给的上述玻璃微粒的沉积而形成上述外部气相沉积层，上述多次的玻璃微粒的沉积中的至少最初一次的上述原料气体的流量相对于稳定值为50％以下，开始上述沉积工序时的上述纤芯母材的蚀刻处理面的温度为50℃以上。