[发明专利]流体控制装置和使用该流体控制装置的制品制造方法

权利要求书

1.一种流体控制装置，其特征在于，

该流体控制装置具有：

第1基块和第2基块，该第1基块和第2基块沿着规定方向配置在上游侧和下游侧，各自划分出上表面、与所述上表面相对的底面、自所述上表面朝向所述底面侧延伸并且在所述规定方向上彼此相对的上游侧端面和下游侧端面；以及

第1流体用设备和第2流体用设备，该第1流体用设备和该第2流体用设备具有划分出流体流路的主体部，且在该主体部的底面具有两个所述流体流路的流路口，所述第1流体用设备和所述第2流体用设备分别设置于所述第1基块的上表面及所述第2基块的上表面，

所述第1基块和所述第2基块各自具有：

上游侧流路和下游侧流路，该上游侧流路和该下游侧流路以分离开的方式形成于所述规定方向的上游侧和下游侧；以及

上游侧螺纹孔和下游侧螺纹孔，该上游侧螺纹孔和该下游侧螺纹孔形成于所述规定方向的上游侧和下游侧，在所述上表面开口并且朝向所述底面侧延伸，

所述上游侧流路和所述下游侧流路各自具有：第1流路，其自在所述上表面开口的流路口朝向所述底面延伸；以及第2流路，其与所述第1流路在所述第1基块或所述第2基块内部连接，并且朝向所述规定方向上的上游侧端面或下游侧端面延伸，

所述第1基块的上游侧螺纹孔和下游侧螺纹孔及所述第2基块的上游侧螺纹孔和下游侧螺纹孔配置为在俯视时至少一部分与对应的所述第2流路重叠，并且在对应的所述第2流路的上方被堵塞，

在分别贯穿所述第1流体用设备的主体部及所述第2流体用设备的主体部并与所述第1基块的所述上游侧螺纹孔和所述下游侧螺纹孔及所述第2基块的所述上游侧螺纹孔和所述下游侧螺纹孔螺纹结合的紧固螺栓的紧固力的作用下，所述第1基块及所述第2基块与所述第1流体用设备的主体部及所述第2流体用设备的主体部分别连结，并且在所述第1基块的上表面的流路口及所述第2基块的上表面的流路口和与其分别对接的所述第1流体用设备的主体部及所述第2流体用设备的主体部的对应的流路口的周围配置的密封构件被压在所述第1基块及所述第2基块与所述第1流体用设备的主体部及所述第2流体用设备的主体部之间，

所述第1基块和所述第2基块各自具有自所述上游侧端面和所述下游侧端面沿着所述规定方向突出的突出管部，

所述突出管部分别与对应的所述第2流路连通，

所述第1基块的下游侧端面的突出管部与所述第2基块的上游侧端面的突出管部气密或液密地连接。

2.根据权利要求1所述的流体控制装置，其特征在于，

所述第1基块和所述第2基块没有供紧固构件贯穿的贯通孔。

3.根据权利要求1或2所述的流体控制装置，其特征在于，

所述第2流路配置为在所述上表面与所述底面之间偏向该底面侧。

4.根据权利要求1或2所述的流体控制装置，其特征在于，

该流体控制装置具有基块组件，该基块组件是包括所述第1基块和所述第2基块在内的划分出流体流路的多个基块相互连接而形成的，

在所述基块组件分别单独地设置流体用设备，

构成所述基块组件的基块都没有供紧固构件贯穿的贯通孔。

5.根据权利要求3所述的流体控制装置，其特征在于，

该流体控制装置具有基块组件，该基块组件是包括所述第1基块和所述第2基块在内的划分出流体流路的多个基块相互连接而形成的，

在所述基块组件分别单独地设置流体用设备，

构成所述基块组件的基块都没有供紧固构件贯穿的贯通孔。

6.一种流量控制方法，其特征在于，

将权利要求1～5中任一项所述的流体控制装置用于工艺气体的流量控制。

7.一种制品制造方法，其特征在于，

在需要在密闭的室内利用工艺气体进行处理的处理工序的半导体装置、平板显示器、太阳能电池板的制品的制造工艺中，将权利要求1～5中任一项所述的流体控制装置用于所述工艺气体的控制。

8.一种半导体制造装置，其特征在于，

该半导体制造装置具有用于向处理室供给工艺气体的流体控制装置，

所述流体控制装置包括权利要求1～5中任一项所述的流体控制装置。