[发明专利]用于单分子定量的系统和方法有效
申请号: | 201780066021.5 | 申请日: | 2017-09-01 |
公开(公告)号: | CN109863503B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | H·B·琼斯;A·L·麦埃维 | 申请(专利权)人: | 英维特公司 |
主分类号: | G06V20/69 | 分类号: | G06V20/69;G06V10/50;G06T7/11;G16B25/20;G16B40/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 分子 定量 系统 方法 | ||
1.一种对固定在基板上的各个光学活性染料标记进行计数的方法,所述方法包括:
在具有存储器和一个或多个处理器的电子装置处:
(a)获得与所述基板的二维数字图像相对应的数字图像数据,
其中,所述数字图像数据包括强度值的二维阵列,其中,各强度值与所述基板上的特定位置相对应;
(b)通过基于所述强度值和所述基板上的特定位置将所述数字图像数据分割成多个区域,来识别所述数字图像数据的区域的第一集合,
其中,各区域具有高于预定义阈值的平均强度值、中位强度值或最大强度值;
(c)针对所述数字图像数据的各区域:
使光学活性染料标记的计数增加1;以及
从光学活性染料标记中识别强度值的峰值位置,并且从所识别的峰值位置处的强度值中减除参考信号分布以获得该区域的调整后强度值,其中,所述参考信号分布与单个光学活性染料标记的点扩展函数相对应;
(d)通过基于所述调整后强度值和所述基板上的特定位置将针对所述区域中的各区域的调整后强度值分割成一个或多个子区域,来识别针对所述区域中的各区域的调整后强度值的一个或多个子区域的第二集合,
其中,如果所述子区域中的任何子区域的平均调整后强度值、中位调整后强度值或最大调整后强度值高于所述预定义阈值,则:
(e)针对所述子区域中的各子区域:
使所述光学活性染料标记的计数增加1。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,使用分水法来将所述数字图像数据分割成多个区域。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,使用最小生成森林方法来将所述数字图像数据分割成多个区域。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述强度值的峰值位置被识别为所述区域的质心和所述强度值的最大强度值其中之一,或者是通过将所述强度值与参考信号的轮廓线拟合来识别的。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,针对所述子区域中的平均调整后强度值、中位调整后强度值或最大调整后强度值高于预定义阈值的各子区域:
从光学活性染料标记中识别调整后强度值的峰值位置,并且从所识别的峰值位置处的调整后强度值中减除参考信号分布以获得该子区域的第二调整后强度值,其中,所述参考信号分布与单个光学活性染料标记的点扩展函数相对应;
通过基于所述第二调整后强度值和所述基板上的特定位置将针对所述子区域中的各子区域的第二调整后强度值分割成一个或多个第二子区域,来识别针对所述子区域中的各子区域的第二调整后强度值的一个或多个第二子区域的第三集合,
其中,如果所述第二子区域中的任何第二子区域的平均第二调整后强度值、中位第二调整后强度值或最大第二调整后强度值高于所述预定义阈值,则:
针对所述第二子区域中的各第二子区域:
使所述光学活性染料标记的计数增加1。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,重复步骤(b)至(e),直到调整后强度轮廓线的平均强度值、中位强度值或最大强度值小于所述预定义阈值为止。
7.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述数字图像数据包括所述基板上的光学活性染料标记的数字数据,其中所述光学活性染料标记未浸没在液体溶液中。
8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,在步骤(a)中,所述数字图像数据是从第一电子装置获得的,所述第一电子装置不同于进行步骤(b)至(e)的第二电子装置且远离所述第二电子装置。
9.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,在步骤(a)中,获得所述数字图像数据包括:从存储装置中检索所述数字图像数据。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述数字图像数据是从数据库检索到的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英维特公司,未经英维特公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780066021.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。