[发明专利]玻璃基板的制造方法

说明书

在将玻璃基板(2)以平放姿势沿输送方向输送，使得该玻璃基板(2)通过在对置配置的主体部(5a)与顶板部(5b)之间形成的处理空间(13)的同时，使用从供气口(14)向处理空间(13)供给且通过排气口(15)从处理空间(13)排出的处理气体(4)，来对玻璃基板(2)的下表面(2a)实施蚀刻处理，所述供气口(14)设置于主体部(5a)，所述排气口(15)分别设置于主体部(5a)的输送方向的上游侧端部及下游侧端部，此时，在上游侧端部的排气口(15)与下游侧端部的排气口(15)之间，沿着输送方向配置多个供气口(14)，从各供气口(14)供给处理气体(4)。

技术领域

本发明涉及包含如下工序的玻璃基板的制造方法，在该工序中，在将玻璃基板以平放姿势输送的同时，利用氟化氢等处理气体对玻璃基板的下表面实施蚀刻处理。

背景技术

众所周知，玻璃基板用于以液晶显示器、等离子显示器、有机EL显示器、场发射显示器等所代表的平板显示器、智能手机、平板型PC等移动终端为首的各种各样的电子设备。

在该玻璃基板的制造工序中，有时产生因静电引起的问题。举出一例，在为了对玻璃基板实施规定的处理而载置于支承台上时，有时因静电而导致玻璃基板粘贴在支承台上。在这样的情况下，在将结束处理后的玻璃基板从支承台抬起时，有时玻璃基板会破损。

对此，作为这种问题的对策，已知有如下的方法：在实施规定的处理之前，利用氟化氢等处理气体对玻璃基板的表面实施蚀刻处理，使表面粗糙化，由此来避免产生因静电引起的问题。而且，在专利文献1中公开了用于对玻璃基板的表面实施蚀刻处理的方法的一例。

在该文献所公开的方法中，在将玻璃基板以平放姿势输送的同时，利用在其输送路径上配置的处理器(该文献中为表面处理装置)所供给的处理气体，对玻璃基板的下表面实施蚀刻处理。

该方法中使用的处理器具备上下夹着玻璃基板的输送路径而对置的上部构成体和下部构成体(在该文献中为一对间隙形成构件)，在两个构成体的相互之间形成有用于实施蚀刻处理的处理空间(在该文献中为间隙)。下部构成体具备：用于向处理空间供给处理气体的供气口；以及用于将处理气体从处理空间排出的排气口。排气口分别设置于下部构成体中的输送方向的上游侧端部及下游侧端部，与此相对，供气口在两排气口的相互之间设置有唯一一个。

而且，在该方法中，在从供气口向处理空间供给处理气体且由排气口将处理气体从处理空间排出的同时，对伴随着输送而通过处理空间的玻璃基板的下表面实施蚀刻处理，由此，使下表面粗糙化。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-125414号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在通过上述的方法而实施了蚀刻处理的情况下，产生了下述那样的应解决的问题。

即，在玻璃基板伴随着输送而从处理空间的外部进入到内部时，与此相伴地，存在于玻璃基板的周围的空气等气体容易向处理空间内流入。然后，当气体流入到处理空间内时，存在于该空间内的处理气体的浓度会变稀，由此，无法对玻璃基板的下表面进行充分的蚀刻处理，有时不能使下表面粗糙化至所希望的程度。

鉴于上述情况而完成的本发明的技术课题在于，在将玻璃基板以平放姿势输送的同时利用处理气体对玻璃基板的下表面实施蚀刻处理之际，能够实现该可靠的执行。

用于解决课题的方案