[发明专利]层叠体及包含其的器件有效
申请号: | 201780070736.8 | 申请日: | 2017-11-17 |
公开(公告)号: | CN109952198B | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 伊藤丰;山下恭弘 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B7/023;B32B7/06;C09J7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 牛蔚然;唐峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 层叠 包含 器件 | ||
在气体阻隔性膜与粘合剂层层叠而成的层叠膜的最外层具有剥离性膜的层叠体中,在将粘合剂层侧的剥离性膜剥离时,粘合剂层侧的相反侧的剥离性膜会发生剥离,或者产生气泡,或者发生气体阻隔性膜的断裂。本发明提供一种层叠体,其具有气体阻隔性膜、位于该气体阻隔性膜的一个表面的粘合剂层、位于该气体阻隔性膜的另一个表面的剥离性膜1、和位于该粘合剂层的与气体阻隔性膜侧呈相反侧的表面的剥离性膜2,前述气体阻隔性膜具有至少包含挠性基材的基材层、和位于该基材层的一个表面的无机薄膜层,所述层叠体满足式(1)及式(2)。
技术领域
本发明涉及层叠体,详细而言,涉及用于器件的包含气体阻隔性膜和粘合剂层的层叠体。
背景技术
以往,提出了具有气体阻隔层及粘合剂层的气体阻隔性粘合片材(专利文献1)。另外,具有层叠膜和在层叠膜的一面侧形成的粘接层的层叠体的制造方法是已知的(专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:WO2013/018602
专利文献2:日本特开2016-78237
发明内容
发明所要解决的课题
对于包含由气体阻隔性膜和粘合剂层形成的层叠膜的层叠体而言,在其两个表面上,有时出于表面保护等目的而在粘合剂层上具有剥离性膜。对于层叠体而言,在与器件的贴合工序中,将剥离性膜剥离,介由露出的粘合剂层而与器件贴合。然而,在将剥离性膜剥离时,粘合剂层侧的相反侧的剥离性膜会发生剥离,或者产生气泡,或者发生气体阻隔性膜的断裂,由此导致有时发生器件不良。
用于解决课题的手段
本申请的发明人为了解决上述课题而对具有气体阻隔性膜的层叠体详细地进行了反复研究,结果完成了本发明。
即,本发明包含以下的优选方式。
[1]层叠体,其具有气体阻隔性膜、位于该气体阻隔性膜的一个表面的粘合剂层、位于该气体阻隔性膜的另一个表面的剥离性膜1、和位于该粘合剂层的与气体阻隔性膜侧呈相反侧的表面的剥离性膜2,其中,
前述气体阻隔性膜具有至少包含挠性基材的基材层、和位于该基材层的一个表面的无机薄膜层,
所述层叠体满足式(1)及式(2):
F1≥F2 (1)
(式(1)中,F1表示剥离性膜1与气体阻隔性膜之间的剥离强度,F2表示剥离性膜2与粘合剂层之间的剥离强度)
G1/G2≥0.4 (2)
(式(2)中,G1表示剥离性膜1的刚性,G2表示剥离性膜2的刚性)
[2]如[1]所述的层叠体,其中,前述式(1)中,F1为0.1N/cm以上。
[3]如[1]或[2]所述的层叠体,其中,前述无机薄膜层含有硅原子、氧原子及碳原子。
[4]如[1]~[3]中任一项所述的层叠体,其中,前述基材层中,在挠性基材的至少一个表面具有有机层A。
[5]如[3]或[4]所述的层叠体,其中,前述无机薄膜层中包含的相对于硅原子、氧原子及碳原子的总数而言的碳原子的原子数比在厚度方向上连续地变化。
[6]如[3]~[5]中任一项所述的层叠体,其中,对于前述无机薄膜层而言,无机薄膜层中的相对于硅原子(Si)而言的碳原子(C)的平均原子数比在式(4)的范围内。
0.10<C/Si<0.50 (4)
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