[发明专利]接合体有效
申请号: | 201780070878.4 | 申请日: | 2017-10-04 |
公开(公告)号: | CN109964405B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 后藤万佐司;多井知义;山寺乔纮;堀裕二;浅井圭一郎;滑川政彦;吉野隆史 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | H03H3/08 | 分类号: | H03H3/08;C30B29/30;H03H9/25 |
代理公司: | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 | 代理人: | 王轶;郑雪娜 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接合 | ||
1.一种接合体,具备:支撑基板、压电性单晶基板、以及设置在所述支撑基板与所述压电性单晶基板之间的接合层,其特征在于,
所述压电性单晶基板的材质为LiAO3,其中,A为铌、钽、或铌及钽这两者,
所述接合层的材质为铌的氧化物、钽的氧化物、或铌与钽的复合氧化物,
沿着所述压电性单晶基板与所述接合层的边界,设置有组成为ExO(1-x)的界面层,其中,E为铌、钽、或铌及钽这两者,0.29≤x≤0.89,
在所述界面层与所述压电性单晶基板之间具有组成为GyO(1-y)的基板侧中间层,其中,G为铌、钽、或铌及钽这两者,x<y≤0.91。
2.根据权利要求1所述的接合体,其特征在于,
所述接合层的所述材质为D2O5,D为铌、钽、或铌及钽这两者。
3.根据权利要求1或2所述的接合体,其特征在于,
所述压电性单晶基板的所述材质为LiTaO3,所述接合层的材质为Ta2O5,所述界面层的组成为TaxO(1-x)。
4.一种接合体,具备:支撑基板、压电性单晶基板、以及设置在所述支撑基板与所述压电性单晶基板之间的接合层,其特征在于,
所述压电性单晶基板的材质为LiAO3,其中,A为铌、钽、或铌及钽这两者,
所述接合层的材质为铌的氧化物、钽的氧化物、或铌与钽的复合氧化物,
沿着所述压电性单晶基板与所述接合层的边界,设置有组成为ExO(1-x)的界面层,其中,E为铌、钽、或铌及钽这两者,0.29≤x≤0.89,
在所述界面层与所述接合层之间具有组成为JzO(1-z)的接合层侧中间层,其中,J为铌、钽、或铌及钽这两者,x<z≤0.95。
5.根据权利要求4所述的接合体,其特征在于,
所述接合层的所述材质为D2O5,D为铌、钽、或铌及钽这两者。
6.根据权利要求4或5所述的接合体,其特征在于,
所述压电性单晶基板的所述材质为LiTaO3,所述接合层的材质为Ta2O5,所述界面层的组成为TaxO(1-x)。
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