[发明专利]接合体有效

专利信息
申请号: 201780070878.4 申请日: 2017-10-04
公开(公告)号: CN109964405B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 后藤万佐司;多井知义;山寺乔纮;堀裕二;浅井圭一郎;滑川政彦;吉野隆史 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: H03H3/08 分类号: H03H3/08;C30B29/30;H03H9/25
代理公司: 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 代理人: 王轶;郑雪娜
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 接合
【权利要求书】:

1.一种接合体,具备:支撑基板、压电性单晶基板、以及设置在所述支撑基板与所述压电性单晶基板之间的接合层,其特征在于,

所述压电性单晶基板的材质为LiAO3,其中,A为铌、钽、或铌及钽这两者,

所述接合层的材质为铌的氧化物、钽的氧化物、或铌与钽的复合氧化物,

沿着所述压电性单晶基板与所述接合层的边界,设置有组成为ExO(1-x)的界面层,其中,E为铌、钽、或铌及钽这两者,0.29≤x≤0.89,

在所述界面层与所述压电性单晶基板之间具有组成为GyO(1-y)的基板侧中间层,其中,G为铌、钽、或铌及钽这两者,x<y≤0.91。

2.根据权利要求1所述的接合体,其特征在于,

所述接合层的所述材质为D2O5,D为铌、钽、或铌及钽这两者。

3.根据权利要求1或2所述的接合体,其特征在于,

所述压电性单晶基板的所述材质为LiTaO3,所述接合层的材质为Ta2O5,所述界面层的组成为TaxO(1-x)

4.一种接合体,具备:支撑基板、压电性单晶基板、以及设置在所述支撑基板与所述压电性单晶基板之间的接合层,其特征在于,

所述压电性单晶基板的材质为LiAO3,其中,A为铌、钽、或铌及钽这两者,

所述接合层的材质为铌的氧化物、钽的氧化物、或铌与钽的复合氧化物,

沿着所述压电性单晶基板与所述接合层的边界,设置有组成为ExO(1-x)的界面层,其中,E为铌、钽、或铌及钽这两者,0.29≤x≤0.89,

在所述界面层与所述接合层之间具有组成为JzO(1-z)的接合层侧中间层,其中,J为铌、钽、或铌及钽这两者,x<z≤0.95。

5.根据权利要求4所述的接合体,其特征在于,

所述接合层的所述材质为D2O5,D为铌、钽、或铌及钽这两者。

6.根据权利要求4或5所述的接合体,其特征在于,

所述压电性单晶基板的所述材质为LiTaO3,所述接合层的材质为Ta2O5,所述界面层的组成为TaxO(1-x)

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