[发明专利]有机金属化学气相沉积装置在审
申请号: | 201780076172.9 | 申请日: | 2017-12-07 |
公开(公告)号: | CN110088356A | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 赵广一;崔成哲 | 申请(专利权)人: | TES股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/458 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 韩国京畿道龙仁市处仁区阳智面*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机金属化学气相沉积装置 基板支撑部 收容槽 基板 腔室 气体供给部 处理空间 处理气体 对基板 中间槽 加热 配置 | ||
1.一种有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,包括:
腔室,提供对基板进行处理的处理空间;
气体供给部,向所述腔室的内部供给处理气体;以及
基板支撑部,配置于所述腔室的内部,具备安装所述基板的收容槽,对所述基板进行加热,且
在所述收容槽的内侧形成有安装所述基板的安装部,在所述安装部的边缘与所述收容槽之间形成有中间槽。
2.根据权利要求1所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
平坦地形成所述安装部的上表面。
3.根据权利要求1所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
在所述基板安装到所述安装部的情况下,所述中间槽的宽度被所述基板遮挡60%至95%。
4.根据权利要求1所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
所述中间槽形成为内部的边角具有棱角的形态。
5.根据权利要求1所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
所述中间槽的宽度为1mm至3mm。
6.根据权利要求5所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
从所述安装部的上表面测定的所述中间槽的深度相对于从所述基板支撑部的上表面测定的所述中间槽的深度为40%至80%。
7.根据权利要求1所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
所述基板沿圆形的圆周面而在至少一部分具备平面,所述收容槽具备从边缘向内侧突出形成而防止所述基板旋转的突出部。
8.根据权利要求8所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
所述基板的平面与所述突出部接触。
9.根据权利要求8所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
所述基板的圆周面与平面接触的角隅区域不与所述突出部接触。
10.根据权利要求9所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
所述突出部相对于所述安装部的中心的圆周角度相对小于所述基板的平面相对于所述安装部的中心的圆周角度。
11.根据权利要求7所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
以可装卸的方式配置所述突出部。
12.根据权利要求1所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
所述基板支撑部包括安装所述基板并加热的加热器区块,
从所述加热器区块的底部向上部形成插入槽,在所述插入槽的内侧配置测定所述加热器区块的温度的热电偶。
13.根据权利要求12所述的有机金属化学气相沉积装置,其特征在于,
从所述加热器区块的底部测定的所述插入槽的高度相对于所述加热器区块的高度而为60%至90%。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的