[发明专利]射频烤箱能量施加的控制

权利要求书

1.一种烤箱，包括：

烹饪室，所述烹饪室被配置成接收食品；

对流加热系统，所述对流加热系统被配置成将加热的空气提供到所述烹饪室中；

射频加热系统，所述射频加热系统被配置成使用固态电子部件将射频能量提供到所述烹饪室中；以及

控制电子器件，所述控制电子器件被配置成控制所述对流加热系统和所述射频加热系统，所述控制电子器件进一步控制用户接口，所述用户接口被配置成限定一个或多个控制台，所述一个或多个控制台用于提供用户输入以控制所述烤箱的操作，

其中所述控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的射频烹饪功率，但是能够响应于学习进程自动选择用于施加所述射频能量的频率和相位参数，

其中，所述学习进程包括：

在有待加热的物体位于所述烹饪室中时，将某一频带内的多个频率提供到所述烹饪室中，并且

基于相对于各个频率的吸收的效率测量来选择所述多个频率的子集。

2.根据权利要求1所述的烤箱，其中，在仅以所述多个频率的子集下施加所述射频烹饪功率之前，能够以低于所选择的射频烹饪功率的功率在所述多个频率上执行所述学习进程。

3.根据权利要求2所述的烤箱，其中，所述多个频率的所述子集是第一子集，并且

其中所述学习进程被重复至少一次以至少限定所述多个频率的第二子集。

4.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述烹饪时间和所选择的射频烹饪功率是由所述用户手动可选择的。

5.根据权利要求4所述的烤箱，其中，所述对流加热系统的烹饪室温度和风扇速度也是由所述用户手动限定的。

6.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述用户通过选择限定所述烹饪时间和所选择的射频烹饪功率的烹饪程序或食谱来选择所述烹饪时间和所述所选择的射频烹饪功率。

7.根据权利要求6所述的烤箱，其中，所述对流加热系统的烹饪室温度和风扇速度也是通过选择所述烹饪程序来限定的。

8.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述用户接口进一步使得能够向所述烹饪时间增加额外的时间，并且其中响应于增加所述额外的时间，启动第二学习进程。

9.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述用户接口被配置成使得能够通过用户选择来限定可重复的一个或多个烹饪程序，并且其中每当所述一个或多个烹饪程序是可重复时响应于所述学习进程的相应操作而单独地自动选择所述频率和所述相位参数，以使得用于所述学习进程的第一实例的第一所选择的频率和相位参数不同于与用于执行一个烹饪程序的所述学习进程的第二实例相关联的第二所选择的频率和相位参数。

10.控制电子器件，包括用户接口，所述控制电子器件进一步被配置成控制射频加热系统，所述射频加热系统被配置成使用固态电子部件将射频能量提供到烤箱的烹饪室中，

其中所述控制电子器件被配置成限定一个或多个控制台，所述一个或多个控制台中的至少一个使得用户能够选择用于执行的烹饪程序以便经由所述射频加热系统在所述烹饪室中烹饪食品，

其中所述控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的射频烹饪功率，但是响应于学习进程自动选择用于施加所述射频能量的频率和相位参数，

其中所述学习进程包括：

在有待加热的物体位于所述烹饪室中时，将某一频带内的多个频率提供到所述烹饪室中，并且

基于相对于各个频率的吸收的效率测量来选择所述多个频率的子集。

11.根据权利要求10所述的控制电子器件，其中，在仅以所述多个频率的子集下施加所述射频烹饪功率之前，能够以低于所选择的射频烹饪功率的功率在所述多个频率上执行所述学习进程。