[发明专利]CMOS图像传感器有效
申请号: | 201780085024.3 | 申请日: | 2017-03-13 |
公开(公告)号: | CN110291782B | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 物井·诚 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | H04N5/3745 | 分类号: | H04N5/3745;H01L27/146 |
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地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cmos 图像传感器 | ||
本发明提供一种CMOS图像传感器。所述CMOS图像传感器包括:PD,其阳极连接到地,其阴极连接到TG的源极;FD;Ca;所述TG,其源极连接到PD的阴极,其漏极连接到FD;SW,其源极连接到电源电压,其漏极连接到RS的源极和所述Ca;所述RS,其源极连接到SW的漏极和所述Ca,其漏极连接到所述FD;AMP,其栅极连接到所述FD,其源极连接到电源电压,其中PD设置在衬底上的第一行,所述AMP、SW和RS中的任意一种器件设置在衬底上的第二行,所述AMP、SW和RS的其余器件设置在衬底上的第三行。本发明的实现目的是缩小高动态范围像素的像素大小。
技术领域
本发明涉及图像传感器领域,尤其涉及高动态范围互补型金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,简称CMOS)图像传感器及其像素结构。
背景技术
图1为一般CMOS图像传感器的像素电路的电路图;图2为所述像素电路设置在硅衬底表面上的俯视图。各缩写的含义如下:PD:光电二极管,用于将光转化为信号电子;TG:传输栅极,将信号电荷传递到FD;FD:浮动扩散器,其中信号电荷被转换为信号电压;Cfd:FD的电容;RS:重置栅极,用于设置FD的电压;AMP:放大器晶体管,将FD的信号电压转换为低阻抗输出信号;SL:选择器晶体管;ADC:模拟数字转换器。
图3为图1中像素电路的脉冲时序图;图4为所述像素电路设置在硅衬底上的沿着图2中A-B的横截面图;图5为与图3中的时序对应的电位图。参考图3至图5,在t1(TG和RS的第一脉冲的下降沿)时,PD中的电荷被清除并开始信号整合。Tint表示整合时段。如图3中左侧所示的波浪线,t1和t2之间的时间段比t2、t3和t4之间的时间段长得多。在t2附近时,信号电荷存储在PD中。在t3(RS的第二脉冲的下降沿)时,FD电压设置为基线电平,SL被导通,并且AMP将FD的信号电压转换为低阻抗输出信号。在ADC处,在通过导通TG(TG的第二脉冲)将信号电荷从PD传递到FD之后,将信号线电平转换为数字值作为基线电平(0_HG)(HG:高增益),在t4时,将信号转换为数字值作为信号(Signal_HG)。从TG的第二脉冲的下降沿到ADC输出Signal_HG时需要一些时间。在这种结构中,信号电荷量受PD容量的限制,且所述电荷量不大。
图6为现有技术中放大信号电荷量的高动态范围CMOS图像传感器的像素电路。图7为设置在硅衬底表面上的像素电路的俯视图。如图6和图7所示,将SW和Ca添加到图1中的电路。各缩写的含义如下:SW:开关管,用于连接到RS并控制FD电容;Ca:附加电容。
图8为图6中像素电路的脉冲时序图;图9为所述像素电路设置在硅衬底上的沿着图7中A-B的横截面图;图10为与图8中的时序对应的电位图。例如,Ca由硅衬底上方的金属-绝缘体-金属电容器制成。参考图8至图10,在t1(TG的第一脉冲的下降沿)时,PD中的电荷被清除并开始信号整合。Tint表示整合时段。在t2附近时,信号电荷存储在PD、FD和Ca中。自t1之后,TG的栅极为低电平,RS的栅极为高电平,TG的阈值电平为高,RS的阈值电平为低,然后PD的溢出电荷通过TG从PD流向Ca和FD,如图10所示。信号被AD转换为LG(LG:低增益)信号,即ADC输出Signal_LG。然后清除Ca和FD处的信号,并且在t3时,FD电压被AD转换为HG信号的基线电平,即ADC输出0_HG。然后,将保留在PD处的信号传送到FD,并且在t4时,信号被AD转换为HG信号,即ADC输出Signal_HG。在该结构中,信号电荷量是PD和Ca的总容量。通过Ca获得大量的信号电荷。
比较图2和图7,由于附加的SW,使得高动态范围像素大于一般像素。
发明内容
提供了一种CMOS图像传感器,用于缩小高动态范围像素的像素大小。
根据第一方面,提供了一种CMOS图像传感器,所述CMOS图像传感器包括:
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