[发明专利]调整组件和包括该调整组件的衬底曝光系统

说明书

本发明涉及一种衬底曝光系统，包括框架、用于承载衬底的衬底支撑模块、用于曝光衬底的曝光装置以及用于调整曝光装置相对于衬底支撑模块的位置的调整组件。调整组件包括液压致动器、液压发生器和导管，导管互连液压致动器和液压发生器用于形成液压系统。曝光装置、框架、调整组件和衬底支撑模块被布置为为一系列机械连接部件的一部分。一系列机械连接部件的第一部分包括曝光装置，并且第二部分包括衬底支撑模块。所述液压执行机构布置在所述第一部分和所述第二部分之间。优选地，液压致动器包括第一波纹管，而液压发生器包括第二波纹管。

技术领域

本发明涉及一种机械调整组件及由此调整的系统。具体地，涉及一种机械调整组件用于包括一系列机械互连部件的系统，具体是具有难以接近环境中的部件的系统，诸如但不限于曝光系统，更具体地，涉及包括框架、连接至所述框架的第一模块、由所述框架承载或连接至所述框架的第二模块的系统或机械布置。本发明还涉及用于调整第一模块相对于第二模块的位置和/或定向的方法。

光刻系统用于将图案投射到目标(诸如硅晶圆)上。最先进的光刻系统通过电磁辐射(尤其是光，更尤其是UV光)或者通过带电粒子(特别是电子)将所述图案投射到目标上来曝光目标。

检查系统被布置用于通过电磁辐射(诸如在光学显微镜中)或者通过带电粒子(具体是电子显微镜中的电子)曝光目标或样品并且分析由曝光辐射与目标相互作用而产生的辐射或带电粒子，以从目标获取信息。

WO 2013/034753描述了光刻系统或检查装置，具体是带电粒子多束光刻系统。用于生成和投射光束的光刻或检查系统的部件通常布置在一列中，并且将在本文称为“曝光装置”。在WO 2013/034753中描述的系统包括用于保持曝光装置的支撑框架和支撑元件。支撑元件通过至少一个弹簧元件连接至支撑框架，以至少部分地将支撑元件与振动隔离。

该已知系统的缺陷在于：在使用中且随着时间的推移，尤其在弹簧元件中会发生蠕变(creep)，导致支撑元件相对于支撑框架的位置偏离出设置位置。从而，支撑元件的位置以及由所述支撑元件保持的曝光装置相对于将被曝光和/或检查的目标的位置也会偏离出系统中的最佳位置。这会对系统性能产生不利影响，特别是对目标的曝光产生不利影响。

根据US2009/0086178已知另一种曝光装置。该系统包括光源和用于照射中间掩模的照明光学系统。桶形投射光学系统将中间掩模的图像投射到晶圆台上的衬底上。投射光学系统通过三个悬挂支撑机构连接至框架。在框架和投射光学系统之间还设置三个驱动机构。每个驱动机构都包括在桶的半径方向上驱动投射光学系统的音圈电机以及在光轴方向(Z轴方向)上驱动投射光学系统的音圈电机。通过三个驱动机构，投射光学系统可沿六自由度方向移动。

这种已知系统的缺陷是：移动曝光装置的致动器被包括为非接触式电机，由此限制在可被承载的负载中。

与衬底曝光系统相关联的另一问题是振动对衬底曝光的负面影响。例如，根据2008/0218720 A1和US 2008/0013058 A1已知通过主动阻尼解决这种问题的系统。

US 2008/0218720 A1描述了一种曝光装置，其被配置为将光从原点投射到衬底上。该曝光装置包括投射光学系统，投射光学系统包括光学元件和被配置为移动光学元件的驱动单元。该装置被布置用于减少由于通过驱动光学元件来校正图像平面的像差或放大率变化伴随的反作用力而引起的振动。投射光学系统还包括被配置为经由气体弹簧支撑投射光学系统的支撑机构、被配置为生成用于驱动单元的驱动信号的控制单元以及被配置为根据驱动信号在由从驱动单元到光学元件的动作力伴随的反作用力的方向相反的方向上向投射光学系统施加力的致动器。

US 2008/0013058 A1描述了设置有气室的气动弹簧装置，该气室在规定压力下填充有气体并且设置有调整装置，用于调整由于气室的容量变化而引起的温度变化。气动弹簧装置可包括在用于支撑具有气压的物体(例如，支撑曝光装置中的衬底台)的防振装置中。