[发明专利]光罩优化算法及最优目标设计

权利要求书

1.一种计量目标设计，其包括沿着测量方向的周期性结构，所述周期性结构具有周期性循环元件当中的粗间距，

其中每一元件沿着所述测量方向是周期性的，具有在子元件临界尺寸CD上变化的周期性循环子元件当中的细间距，其中所述粗间距是所述细间距的整数倍，且

其中所述目标设计进一步包括正交周期性结构，所述正交周期性结构垂直于所述测量方向，具有周期性循环条当中的正交未解析间距，其中所述正交未解析间距小于指定最小设计规则间距。

2.一种光刻光罩，其包括根据权利要求1所述的计量目标设计。

3.一种计量目标，其是使用根据权利要求2所述的光罩产生。

4.根据权利要求3所述的计量目标，其包括沿着所述测量方向的目标周期性结构，所述目标周期性结构具有周期性循环目标元件当中的目标粗间距，

其中每一目标元件沿着所述测量方向是周期性的，具有在目标子元件CD上变化的周期性循环目标子元件当中的目标细间距，其中所述目标粗间距是所述目标细间距的整数倍。

5.一种晶片，其包括根据权利要求3或4所述的至少一个计量目标。

6.一种根据权利要求3或4所述的至少一个计量目标的目标设计文件。

7.一种根据权利要求3或4所述的多个计量目标的计量覆盖测量。

8.一种计量目标，其包括沿着测量方向的周期性结构，所述周期性结构具有周期性循环元件当中的粗间距，其中每一元件沿着所述测量方向是周期性的，具有CD相同的周期性循环子元件当中的细间距，且其中由垂直于所述测量方向、具有周期性循环切口的正交周期性结构切割所述子元件。

9.根据权利要求8所述的计量目标，其中所述细间距介于最小设计规则间距的一倍与两倍之间。

10.根据权利要求8所述的计量目标，其中所述细间距是所述最小设计规则间距的两倍。

11.一种晶片，其包括根据权利要求8到10中任一项所述的至少一个计量目标。

12.一种根据权利要求8到10中任一项所述的至少一个计量目标的目标设计文件。

13.一种方法，其包括：

将具有正交未解析间距、垂直于测量方向的正交周期性结构引入到包括沿着所述测量方向的周期性结构的计量目标设计，及

在光刻光罩上使用所述计量目标设计来产生具有仅沿着所述测量方向的周期性结构的可配置计量目标。

14.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括配置所述计量目标设计以使所述周期性结构包括处于粗间距的周期性循环元件，其中每一元件沿着所述测量方向是周期性的，具有在子元件CD上变化的周期性循环子元件当中的细间距，其中所述粗间距是所述细间距的整数倍。

15.根据权利要求13或14所述的方法，其进一步包括配置正交周期性结构元件的宽度以优化目标可印刷性。

16.根据权利要求15所述的方法，其进一步包括从根据所述计量目标设计所产生的计量目标导出覆盖计量测量。

17.一种方法，其包括：

在处理层上沿着测量方向产生周期性结构，所述周期性结构具有周期性循环元件当中的粗间距，其中每一元件沿着所述测量方向是周期性的，具有CD相同的周期性循环子元件当中的细间距，及

由垂直于所述测量方向、具有周期性循环切口的正交周期性结构切割所述子元件。