[发明专利]光罩优化算法及最优目标设计

说明书

本发明提供光罩上及晶片上的计量目标设计，以及目标设计及处理方法。目标设计包括：粗间距周期性结构，其具有在子元件CD及/或高度上变化的细间距子元件；正交周期性结构，其垂直于测量方向，具有周期性循环条当中的正交未解析间距，所述周期性循环条提供用于实现良好印刷目标的校准参数。正交周期性结构可设计在光罩上且是未解析的，或以切割图案施加在处理层上，具有对于切割层覆盖的相对低灵敏度。所设计的目标可用于覆盖计量以及用于测量工艺参数，例如扫描仪像差及间距偏差。

技术领域

本发明涉及计量领域，且更具体来说，本发明涉及覆盖目标设计。

背景技术

周期性目标广泛用于覆盖测量，但是，覆盖目标面临着必须提供可检测测量结果及对所生产装置的合规性两者的持续挑战，所生产装置变得越来越小且关于其生产工艺进行特定设计。

发明内容

下文是提供本发明的初步理解的简化概要。概要不一定识别关键元素，也不限制本发明的范围，而仅充当以下描述的导论。

本发明的一个方面提供一种计量目标设计，其包括沿着测量方向的周期性结构，周期性结构具有周期性循环元件当中的粗间距，其中每一元件沿着测量方向是周期性的，具有在子元件临界尺寸(CD)上变化的周期性循环子元件当中的细间距，其中粗间距是细间距的整数倍，且其中目标设计进一步包括正交周期性结构，正交周期性结构垂直于测量方向，具有周期性循环条当中的正交未解析间距，其中正交未解析间距小于指定最小设计规则间距。

本发明的这些、额外及/或其它方面及/或优点在下文的具体实施方式中阐述；可能可从具体实施方式推断；及/或可通过实践本发明而学习。

附图说明

为了更好地理解本发明的实施例且展示可如何实行本发明的实施例，现在将纯粹通过实例参考附图，其中遍及图式中的相同数字指定对应元件或区段。

在附图中：

图1A是根据本发明的一些实施例的计量目标设计的高阶示意图。

图1B是根据本发明的一些实施例的光刻过程的设定的高阶示意图及高度简化图。

图2A到2C是现有技术目标设计的高阶示意图。

图3及4是根据本发明的一些实施例的计量目标设计的高阶示意图。

图5是根据本发明的一些实施例的使用具有不同宽度的正交条的目标设计的印刷计量目标的高阶示意图。

图6A到6C是根据本发明的一些实施例的印刷计量目标的高阶示意图。

图7A及7B是根据本发明的一些实施例的使用目标的额外测量的高阶示意图。

图8是说明根据本发明的一些实施例的方法的高阶流程图。

具体实施方式

在以下描述中，描述本发明的各种方面。为了阐释的目的，阐述特定配置及细节以提供本发明的透彻理解。但是，所属领域的技术人员也将了解，本发明可在没有本文中呈现的具体细节的情况下实践。此外，可能已省略或简化熟知的特征以不模糊本发明。具体参考图式，应强调，所展示细项是通过实例且仅是为了说明性论述本发明的目的，且为了提供据信是本发明的原理及概念方面的最有用且容易理解的描述的原因而呈现。在这方面，不试图比基本理解本发明所需般更详细展示本发明的结构细节，结合图式进行的描述使所属领域的技术人员了解实际上可如何体现本发明的若干形式。

在详细阐释本发明的至少一个实施例之前，应理解，本发明在其应用上不限于以下描述中阐述或图式中说明的组件的构造及布置的细节。本发明可应用在可以各种方式实践或实行的其它实施例以及所揭示实施例的组合。此外，应理解，本文中采用的词组及术语是为了描述的目的且不应被视为限制性的。