[发明专利]波长转换装置有效

专利信息
申请号: 201780092681.0 申请日: 2017-08-22
公开(公告)号: CN110800175B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: 渊向笃;若林理;佐佐木阳一 申请(专利权)人: 极光先进雷射株式会社
主分类号: H01S3/10 分类号: H01S3/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 金玲;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 波长 转换 装置
【说明书】:

波长转换装置具有:A.晶体保持器,其对非线性晶体进行保持,该非线性晶体对所入射的激光进行波长转换而出射;B.第一容器,其收纳晶体保持器,包含入射窗口和出射窗口,其中,该入射窗口设置在向非线性晶体入射的激光的光路上,该出射窗口设置在从非线性晶体出射的激光的光路上;C.第二容器,其收纳第一容器;D.位置调整机构,其进行至少所述第一容器的位置调整;以及E.隔离机构,其将入射窗口和出射窗口在空间上与位置调整机构进行隔离。

技术领域

本公开涉及用于激光装置的波长转换装置。

背景技术

随着半导体集成电路的微细化、高集成化,在半导体曝光装置中要求提高分辨率。以下,将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。为此,正在推进从曝光用光源输出的光的短波长化。在曝光用光源中,使用气体激光装置来代替以往的汞灯。目前,作为曝光用激光装置,使用了输出波长为248nm的紫外线的KrF准分子激光装置以及输出波长为193.4nm的紫外线的ArF准分子激光装置。

作为目前的曝光技术,实用化了如下的浸液曝光:通过用液体充满曝光装置侧的投影透镜与晶片之间的间隙来改变该间隙的折射率,从而缩短曝光用光源的目击波长。在使用ArF准分子激光装置作为曝光用光源进行浸液曝光的情况下,对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将这种技术称为ArF浸液曝光。ArF浸液曝光也被称为ArF浸液光刻。

由于KrF、ArF准分子激光装置在自然振荡中的谱线宽度宽至大约350pm~400pm,所以由曝光装置侧的投影透镜缩小投影到晶片上的激光(紫外线光)产生色像差而导致分辨率降低。因此,需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化,直到色像差达到能够忽略的程度。因此,在气体激光装置的激光谐振器内设置有具有窄带化元件的窄带化模块(Line Narrowing Module)。通过该窄带化模块实现了谱线宽度的窄带化。窄带化元件也可以是标准具或光栅等。将谱线宽度被以这种方式窄带化的激光装置称为窄带化激光装置。

另外,在曝光装置用激光装置中,从节能的观点出发,有时使用固体激光装置。固体激光装置构成为包含半导体激光器、非线性晶体等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2001-296570号公报

专利文献2:日本特表2011-507305号公报

专利文献3:日本特开2000-347234号公报

专利文献4:日本特开2010-128119号公报

专利文献5:日本特开2011-211234号公报

发明内容

本公开的1个观点的波长转换装置具有:

A.晶体保持器,其对非线性晶体进行保持,该非线性晶体对所入射的激光进行波长转换而出射;

B.第一容器,其收纳晶体保持器,包含入射窗口和出射窗口,其中,该入射窗口设置在向非线性晶体入射的激光的光路上,该出射窗口设置在从非线性晶体出射的激光的光路上;

C.第二容器,其收纳第一容器;

D.位置调整机构,其进行至少所述第一容器的位置调整;以及

E.隔离机构,其将入射窗口和出射窗口在空间上与位置调整机构进行隔离。

附图说明

下面,仅仅作为例子,参照附图对本发明的几个实施方式进行说明。

图1是概略地示出比较例的固体激光系统的结构的图。

图2是示出位置调整机构的结构的图。

图3是对比较例的固体激光系统的课题进行说明的图。

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