[发明专利]射流片、用于循环射流片内的流体的系统和流体流动结构

权利要求书

1.一种射流片，所述射流片包括：

流体通道层，所述流体通道层包括沿着流体喷射设备的长度限定的至少一个流体通道；

中介层，所述中介层耦接到所述流体通道层，所述中介层包括：

多个输入端口，所述多个输入端口限定在所述中介层中，以将至少一个通道层射流地耦接到流体源；和

多个输出端口，所述多个输出端口限定在所述中介层中，以将所述至少一个通道层射流地耦接到所述流体源，

其中，所述射流片包括耦接到所述中介层的载体基质，所述载体基质包括限定于载体基质中的多个开口，所述开口对应于所述输入端口和所述输出端口。

2.根据权利要求1所述的射流片，其中，限定在所述中介层中的所述多个输入端口和所述多个输出端口基于最小流动路径，所述最小流动路径由限定在所述中介层中的所述多个输入端口和所述多个输出端口限定，以增加所述流体通道层内的流体流动的均匀性。

3.根据权利要求1所述的射流片，其中：

沿着所述流体喷射设备的长度限定至少两个流体通道，

所述至少两个流体通道限定在流体通道之间的肋，并且

所述肋沿着所述流体通道的长度连续延伸，或所述肋是沿着所述流体通道的长度间断的。

4.根据权利要求1所述的射流片，其中，所述射流片包括布置在流体馈送孔内的多个微射流泵。

5.根据权利要求1所述的射流片，其中，所述至少一个流体通道内的流体流相对于所述输入端口和所述输出端口内的流体流垂直。

6.根据权利要求1所述的射流片，其中，所述射流片是流体喷射设备，所述流体喷射设备包括：

流体喷射片，所述流体喷射片用于从所述流体喷射设备喷射流体，

其中，所述流体通道层经由限定在所述流体喷射片内的多个流体馈送孔射流地耦接到所述流体喷射片。

7.根据权利要求6所述的射流片，其中，所述流体喷射设备的至少一部分在能够注塑的材料内二次注塑。

8.一种用于循环射流片内的流体的系统，所述系统包括：

流体贮存器；

射流片，所述射流片射流地耦接到所述流体贮存器，所述射流片包括：

流体通道层，所述流体通道层包括沿着所述射流片的长度限定的至少一个流体通道；

中介层，所述中介层耦接到所述流体通道层，所述中介层包括：

多个输入端口，所述多个输入端口限定在所述中介层中，以将至少一个通道层射流地耦接到流体源；和

多个输出端口，所述多个输出端口限定在所述中介层中，以将所述至少一个通道层射流地耦接到所述流体源，以及

外部泵，所述外部泵射流地耦接到所述流体贮存器和所述射流片，以施加足以使流体移动通过所述输入端口和所述输出端口的压力差，

其中，所述射流片包括耦接到所述中介层的载体基质，所述载体基质包括限定于载体基质中的多个开口，所述开口对应于所述输入端口和所述输出端口。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述流体喷射片包括：

流体喷射片，所述流体喷射片经由限定在所述流体喷射片内的多个流体馈送孔射流地耦接到所述流体通道层，所述流体喷射片包括：

多个喷嘴；和

流体激发腔阵列，所述流体激发腔阵列射流地耦接到所述喷嘴，以使流体喷射通过所述喷嘴，

其中，所述多个流体馈送孔射流地耦接到激发腔阵列。

10.根据权利要求8所述的系统，其中，所述系统包括耦接到所述中介层的载体基质，所述载体基质包括限定于载体基质中的多个开口，所述开口对应于所述输入端口和所述输出端口。