[发明专利]蚀刻装置以及显示装置的制造方法

说明书

本发明提供一种蚀刻装置(1)，具有：药液处理槽(20)，其在内部输送基板(2)；和喷射部(21)，其配置在药液处理槽(20)的内部，具有朝向与基板(2)的表面不相交的方向的吹出口(22)，并且通过吹出口(22)喷射雾状的蚀刻剂药液(22)。

技术领域

本发明涉及一种蚀刻装置以及显示装置的制造方法。

背景技术

专利文献1中公开了一种有机EL显示面板，其特征在于，非固定侧基板具有EL元件部位于内部的凹部且该凹部的周缘成为肋，该凹部是通过将蚀刻液以雾状供给而进行的蚀刻而形成的。

专利文献2中公开了一种雾蚀刻方法，其特征在于，现有结构物是在半导体晶片的表面露出的、作为在现有的蚀刻工序中具有耐蚀刻性的掩模而使用的、并且是应该通过雾蚀刻进行溶解除去的使用完毕的掩蔽材料，并且，所使用的蚀刻液是通过使蚀刻液微粒化而使其以雾状分散在惰性气体中而形成的微雾的形态。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-186042号公报专利文献2：日本特开2009-010033号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

专利文献1以及2的结构中，由于形成于基板的表面的蚀刻液膜的厚度上产生偏差，因此存在难以正确地对基板进行蚀刻的问题。

本发明是为了解决上述问题而完成的，其目的在于正确地对基板进行蚀刻。

解决问题的手段

为了解决上述问题，本发明的一个方式所涉及的蚀刻装置，其特征在于，具备：药液处理槽，其在内部输送基板；以及喷射部，其配置在所述药液处理槽的内部，具有朝向与所述基板的表面不相交的方向的吹出口，并且通过所述吹出口喷射雾状的蚀刻剂药液。

为了解决上述问题，本发明的一个方式所涉及的显示装置的制造方法，其特征在于，具有如下工序：在药液处理槽的内部输送基板的工序；以及使配置在所述药液处理槽的内部，具有朝向与所述基板的表面不相交的方向的吹出口的喷射部，通过所述吹出口喷射雾状的蚀刻剂药液的工序。

发明效果

本发明的一个方式，起到能够正确地对基板进行蚀刻的效果。

附图说明

图1是表示蚀刻装置的结构的图。

图2是表示冷却槽的结构的图。

图3是表示药液处理槽的结构的图。

图4是表示清洗槽的结构的图。

图5是表示干燥槽的结构的图。

图6是表示卸载机的结构的图。

图7是表示药液处理槽的更详细的结构的图。

图8是表示在药液处理槽的内部以倾斜的状态被输送的基板的图。

具体实施方式

(蚀刻装置1的结构)

图1是表示蚀刻装置1的结构的图。蚀刻装置1是对基板2的表面进行蚀刻的装置。基板2例如是在其表面形成有机EL显示器件等显示器件的构成要素的基板。为了在基板2的表面形成例如以ITO/Ag/ITO为材料的布线，蚀刻装置1对基板2进行湿式蚀刻。

图1的蚀刻装置1具备冷却槽10、药液处理槽20、清洗槽30、干燥槽40以及卸载机50。冷却槽10～卸载机50依次排列成一列。基板2首先被搬入冷却槽10。蚀刻装置1使用输送辊(未图示)沿一定的输送方向3输送基板2。在图1中，基板2的输送方向3是从冷却槽10朝向卸载机50的直线方向。