[发明专利]使用多层堆叠制造器件

说明书

提出了一种制造器件的方法。该方法包括在具有主表面的衬底(10'、100')上形成多层堆叠(101'、102'、103')。该多层堆叠包括形成在衬底的主表面之上的支撑层(102')和形成在支撑层上的光致抗蚀剂层(103')；图案化该多层堆叠以形成至少一个开口使得光致抗蚀剂层被支撑层底切；以及各向异性地干蚀刻衬底。

技术领域

本公开涉及使用多层堆叠制造器件。

背景技术

量子计算是一种利用量子力学现象(诸如两个量子态的叠加及属于分开的且相距遥远的实体的量子态之间的纠缠)的新计算方法。与使用配置为处于两个双稳态(例如，“0”和“1”)的“位”来存储和操纵信息的数字计算机相比，量子计算系统旨在使用配置为量子态的叠加(例如，a|0+b|1)的“量子位”来操纵信息。每个量子位的量子态可以彼此纠缠，即，一个量子位的测量结果与另一量子位的测量结果紧密相关。这些特性提供了优于经典计算机的关键优势，即量子计算机的速度与量子位数量成指数关系。

发明内容

一般，在一些方面，本公开的主题可以体现在制造器件的方法中，该方法包括在具有主表面的衬底上形成多层堆叠，该多层堆叠包括形成在衬底的主表面之上的支撑层、以及形成在支撑层上的光致抗蚀剂层；制造器件的方法还包括：图案化多层堆叠以形成至少一个开口，使得光致抗蚀剂层被支撑层底切；以及各向异性地干蚀刻衬底。

该方法的实现方式可以包括以下特征中的一个或更多个。例如，在一些实现方式中，多层堆叠还可以包括形成在衬底的主表面上的第一层，支撑层形成在第一层之上。

在一些实现方式中，支撑层可以形成在第一层上。

在一些实现方式中，其中支撑层可以被第一层上切。

在一些实现方式中，光致抗蚀剂层和第一层可以具有对准的各自的边缘。

在一些实现方式中，第一层是聚合材料。

在一些实现方式中，聚合材料可以对电子束辐射敏感。

在一些实现方式中，聚合材料可以是甲基丙烯酸甲酯。

在一些实施方式中，聚合材料可以是聚甲基丙烯酸甲酯。

在一些实施方式中，聚合材料可以是甲基丙烯酸。

在一些实施方式中，多层堆叠可以是双层堆叠。

在一些实现方式中，图案化多层抗蚀剂堆叠可以包括使用显影剂对光致抗蚀剂层进行显影。

在一些实现方式中，支撑层可溶于显影剂。

在一些实现方式中，显影剂可以是碱。

在一些实现方式中，支撑层是聚合材料。

在一些实现方式中，聚合材料可以对电子束辐射敏感。

在一些实现方式中，聚合材料可以是聚甲基戊二酰亚胺。

在一些实现方式中，聚合材料可以是甲基丙烯酸甲酯。

在一些实现方式中，聚合材料可以是聚甲基丙烯酸甲酯。

在一些实现方式中，聚合材料可以是甲基丙烯酸。

在一些实现方式中，图案化多层堆叠可以包括执行等离子体灰化。

在一些实现方式中，所述器件可以是量子信息处理器件。

在一些实现方式中，衬底可以包括设置在硅衬底上的铝层。

在一些实现方式中，器件可以是可通过以上方法或实现方式中的任何一种获得的器件。