[发明专利]光掩膜、显示装置以及显示装置的制造方法在审
申请号: | 201780095416.8 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN111149055A | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 郡司辽佑;冈部达;谷山博己;市川伸治;斋田信介;神村浩治;仲田芳浩;井上彬 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32;H01L51/50 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光掩膜 显示装置 以及 制造 方法 | ||
1.一种光掩膜,其是用于形成显示装置的光掩膜中的、用于统一形成边缘罩的光掩膜,所述显示装置包括:多个第一电极;所述边缘罩,其覆盖所述第一电极的端部;岛状发光层,其覆盖所述第一电极与所述边缘罩的一部分;以及第二电极,所述光掩膜特征在于,
所述边缘罩包括在所述第一电极处开口的开口部、平坦部、以及高于所述平坦部的多个感光间隔部,
所述光掩膜包括:透过部,其形成所述开口部;半透射光部,其形成所述平坦部;以及遮光部,其形成所述感光间隔部,
所述遮光部在排列成格子状的多个所述透过部之间形成为岛状,
夹于2个所述透过部的所述遮光部的端部形成为沿所述透过部的外缘延伸。
2.根据权利要求1所述的光掩膜,其特征在于,
所述透过部形成为四边形状。
3.根据权利要求1所述的光掩膜,其特征在于,
所述半透射光部具有多个带状图案相互平行形成的图案。
4.根据权利要求1所述的光掩膜,其特征在于,
所述遮光部形成为其周向边缘部与所述半透射光部相接。
5.根据权利要求1所述的光掩膜,其特征在于,
所述遮光部形成为其周向边缘部的一部分与所述透过部相接。
6.根据权利要求1所述的光掩膜,其特征在于,
所述半透射光部由半色调掩膜形成。
7.根据权利要求1所述的光掩膜,其特征在于,
所述半透射光部由设置有微小图案的灰色调掩膜形成。
8.一种显示装置,其包括覆盖多个第一电极的端部的边缘罩,其特征在于,
所述边缘罩包括:
开口部,其在所述第一电极处开口;
平坦部;以及高于所述平坦部的多个感光间隔部,
所述显示装置还包括:
岛状发光层,其覆盖所述第一电极和所述边缘罩的一部分;以及
第二电极,其在所述发光层的上一层,并且与所述第一电极共用,
所述感光间隔部在排列成格子状的多个开口部之间形成为岛状,并且夹于2个所述开口部的所述感光间隔部的端部形成为沿所述开口部的外缘延伸。
9.一种显示装置的制造方法,其使用权利要求1所述的光掩膜,其特征在于,包括:
在基板上形成所述边缘罩的工序;
在所述边缘罩上放置所述光掩膜的工序;以及
穿过所述光掩膜向所述边缘罩照射光,沿所述开口部的外缘形成所述感光间隔部的工序。
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