[发明专利]光掩膜、显示装置以及显示装置的制造方法在审
申请号: | 201780095416.8 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN111149055A | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 郡司辽佑;冈部达;谷山博己;市川伸治;斋田信介;神村浩治;仲田芳浩;井上彬 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32;H01L51/50 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光掩膜 显示装置 以及 制造 方法 | ||
一种光掩膜(1)包括:透过部,其形成所述开口部;半透射光部,其形成所述平坦部;以及遮光部,其形成所述感光间隔部,所述遮光部在排列成格子状的多个所述透过部之间形成为岛状,并且夹于2个所述透过部的所述遮光部的端部形成为沿所述透过部的外缘延伸。
技术领域
本发明涉及一种光掩膜、使用光掩膜的显示装置以及显示装置的制造方法。
背景技术
已知一种显示装置包括:边缘罩(绝缘膜),其覆盖有机发光二极管的阳极电极(下部电极)的周向边缘部;以及感光间隔物(肋),其形成于上述阳极电极上,作为用于蒸镀上述发光材料的精密金属掩模的间隔物发挥功能(专利文献1)。
上述边缘罩以覆盖阳极电极的周向边缘部的状态形成,阳极电极从形成于该边缘罩上的窗口中露出。之后,在该边缘罩上形成感光间隔物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本公开专利公报:“特开2001-195008号公报(2001年7月19日公开)”
发明内容
发明要解决的课题
如果使用具有灰色调图案的光掩膜统一形成上述边缘罩与上述感光间隔物,则2次的曝光工序只要1次的曝光工序就能完成,因此是有利的。
然而,当形成多个小感光间隔物时,出现如下现象:在烧结时产生热流挂,感光间隔物变形,并且感光间隔物的高度降低。这种现象在高清显示装置中尤其成为问题。
用于解决课题的方法
本发明的一实施方式涉及的光掩膜是一种用于形成显示装置的光掩膜中的、用于统一形成所述边缘罩的光掩膜,所述显示装置包括:多个第一电极;边缘罩,其覆盖所述第一电极的端部;岛状发光层,其覆盖所述第一电极和所述边缘罩的一部分;以及第二电极,所述边缘罩包括在所述第一电极处开口的开口部、平坦部、以及高于所述平坦部的多个感光间隔部,所述光掩膜包括:透过部,其形成所述开口部;半透射光部,其形成所述平坦部;以及遮光部,其形成所述感光间隔部,所述遮光部在排列成格子状的多个所述透过部之间形成为岛状,并且夹于2个所述透过部的所述遮光部的端部形成为沿所述透过部的外缘延伸。
发明效果
根据本发明的一实施方式,能够防止烧结时热流挂导致感光间隔物高度的降低。
附图说明
图1是示意性地示出了实施方式一涉及的光掩膜的构成的平面图。
图2是图1所示的沿平面AA的截面图。
图3是示意性地示出了比较例涉及的光掩膜的构成的平面图。
图4(a)是比较例涉及的基板和光敏有机层的烧结前的截面图,(b)是比较例涉及的基板和光敏有机层的烧结后的截面图,(c)是实施方式一涉及的基板和光敏有机层的烧结前的截面图,(d)是实施方式一涉及的基板和光敏有机层的烧结后的截面图。
图5(a)是示出了实施方式一涉及的光掩膜的变形例的平面图,(b)是示出了其他变形例的平面图。
图6(a)和(b)是示出了上述光掩膜的另一变形例的平面图。
图7(a)和(b)是示出了上述光掩膜的另一变形例的平面图。
图8是示出了上述光掩膜的另一变形例的平面图。
具体实施方式
下面对本发明的实施方式进行描述。
图1是示意性地示出了实施方式一涉及的光掩膜1的构成的平面图。图2是图1所示的沿平面AA的截面图。
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