[发明专利]准分子激光装置和电子器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780095631.8 申请日: 2017-11-27
公开(公告)号: CN111194510B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 石田启介;小室哲;古里博志 申请(专利权)人: 极光先进雷射株式会社
主分类号: H01S3/134 分类号: H01S3/134;G03F7/20;H01S3/137
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 于英慧;崔成哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 准分子激光 装置 电子器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种准分子激光装置,其具有:

腔,其在内部包含激光气体和一对电极,在对所述一对电极之间施加电压时所述激光气体被激励而生成激光;

激光谐振器,其以中间隔着所述腔的方式被配置于所述激光的光路上;电源,其对所述一对电极之间施加电压;

波面调节器,其通过对在所述激光谐振器内往复的所述激光的波面进行调节来调整谱线宽度;

气体排气装置,其进行所述腔内的所述激光气体的一部分的排气;

气体供给装置,其向所述腔内供给激光气体;

能量计测器,其检测从所述激光谐振器输出的激光的脉冲能量;

谱波形计测器,其计测从所述激光谐振器输出的激光的谱波形;以及

控制器,

所述控制器,

控制对所述一对电极之间施加的电压,使得由所述能量计测器检测出的脉冲能量接近目标能量,

控制所述波面调节器,使得根据所述谱波形计测器计测出的谱波形计算出的谱线宽度接近目标值,

将第1目标值作为基准,在所述目标值变化为第2目标值的情况下,计算与将如下第1函数的值加上对所述一对电极之间施加的电压而得到的值相当的校正电压,作为在所述腔内的气压的控制中使用的电压,所述第1函数是取与从所述第2目标值减去所述第1目标值而得到的差分值对应的值的函数,

在所述校正电压小于第1阈值的情况下,通过所述气体排气装置排出所述腔内的所述激光气体的一部分,在所述校正电压大于第2阈值的情况下,通过所述气体供给装置向所述腔内供给激光气体,由此对所述气压进行控制。

2.根据权利要求1所述的准分子激光装置,其中,

所述第1函数包含线性函数、多项式函数和指数函数中的任意函数。

3.根据权利要求1所述的准分子激光装置,其中,

所述波面调节器包含光学部件、载置有所述光学部件的载置台和对所述载置台的位置进行调节的致动器,所述光学部件配置于在所述激光谐振器内往复的所述激光的光路上,

所述控制器在所述目标值从所述第1目标值变化为所述第2目标值的情况下,作为所述目标值越小则所述载置台的移动量相对于所述目标值的变化量之比越大的第2函数,求出所述载置台的位置,对所述致动器进行控制,以使所述载置台的位置成为求出的所述位置。

4.根据权利要求3所述的准分子激光装置,其中,

所述第2函数包含线性函数、多项式函数、幂函数和指数函数中的任意函数。

5.根据权利要求1所述的准分子激光装置,其中,

所述谱波形计测器通过用传感器接收所述激光的干涉条纹来计测所述激光的每个脉冲的多个谱波形,所述控制器,

以与所述第1目标值对应的累计脉冲数的次数(累计次数Ni),对由所述谱波形计测器计测出的所述多个谱波形进行累计,

根据通过所述累计而得到的累计波形计算所述谱线宽度,并且

在所述目标值从所述第1目标值变化为所述第2目标值的情况下,作为所述目标值越小则所述累计脉冲数越小的第3函数,计算所述累计脉冲数。

6.根据权利要求5所述的准分子激光装置,其中,

所述第3函数包含线性函数、多项式函数和指数函数中的任意函数。

7.根据权利要求5所述的准分子激光装置,其中,

所述控制器,

对与所述目标值对应的平均次数内的所述累计波形进行平均,

根据通过所述平均而得到的平均波形计算所述谱线宽度。

8.根据权利要求5所述的准分子激光装置,其中,

所述波面调节器包含光学部件、载置有所述光学部件的载置台和对所述载置台的位置进行调节的致动器,所述光学部件配置于在所述激光谐振器内往复的所述激光的光路上,

所述控制器在所述目标值从所述第1目标值变化为所述第2目标值的情况下,作为所述目标值越小则所述载置台的移动量相对于所述目标值的变化量之比越大的第2函数,求出所述载置台的位置,对所述致动器进行控制,以使所述载置台的位置成为求出的所述位置。

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