[发明专利]等离子体照射装置在审

专利信息
申请号: 201780097654.2 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN111466156A 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 神藤高广;池户俊之;泷川慎二;丹羽阳大 申请(专利权)人: 株式会社富士
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 杨青;安翔
地址: 日本爱知*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 照射 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子体照射装置,具备:

等离子体头,产生等离子化气体并从喷嘴喷出该等离子化气体;

气体供给装置,用于对气体进行流量调节并向所述等离子体头供给气体;

气体管,将该气体供给装置与所述等离子体头之间连接而成为气体的流路;及

压力检测器,检测从所述气体供给装置供给的气体的压力。

2.根据权利要求1所述的等离子体照射装置,其中,

所述压力检测器设于所述气体供给装置与所述气体管之间。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体照射装置,其中,

该等离子体照射装置具备堵塞判定器,所述堵塞判定器基于由所述压力检测器检测出的气体的压力来判定气流在所述等离子体头中的堵塞即头堵塞。

4.根据权利要求3所述的等离子体照射装置,其中,

所述堵塞判定器构成为,基于基准管压力损失和基准头压力损失来设定应由所述压力检测器检测的气体的压力即基准压力,并基于由所述压力检测器实际检测出的气体的压力即实际压力与基准压力之差来判定头堵塞,所述基准管压力损失基于所述气体管的长度和在该气体管中通过的气体的流量来设定,所述基准头压力损失基于所述等离子体头的式样和在该等离子体头中通过的气体的流量来设定。

5.根据权利要求4所述的等离子体照射装置,其中,

该等离子体照射装置具备:

多个气体供给装置,分别作为所述气体供给装置发挥作用;

多个气体管,分别作为所述气体管发挥作用,并将所述多个气体供给装置与所述等离子体头分别连接;及

多个压力检测器,分别作为所述压力检测器发挥作用,检测从所述多个气体供给装置中的各气体供给装置供给的气体的压力,

所述等离子体头以使从所述多个气体供给装置通过了所述多个气体管的气体在内部混合的方式构成,

所述基准管压力损失对应于所述多个气体管中的各气体管而设定有多个,

所述堵塞判定器构成为,基于设定有多个的所述基准管压力损失和所述基准头压力损失来设定所述多个压力检测器中的各压力检测器的所述基准压力,在由所述多个压力检测器各自检测出的实际压力与所述多个压力检测器中的各压力检测器的所述基准压力之差均超过设定差的情况下,判定为产生了头堵塞。

6.根据权利要求5所述的等离子体照射装置,其中,

所述堵塞判定器构成为,在只有由所述多个压力检测器中的一个压力检测器检测出的实际压力与该一个压力检测器的所述基准压力之差超过设定差的情况下,判定为在所述多个气体管中的如下的一个气体管中产生了气体管的气流的堵塞即管堵塞:在该一个气体管与所述多个气体供给装置中的一个气体供给装置之间设有该多个压力检测器中的一个压力检测器。

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